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1. (WO2007048928) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE EN COUCHES MINCES ET STRUCTURE EN COUCHES MINCES AINSI OBTENUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/048928    N° de la demande internationale :    PCT/FR2006/002400
Date de publication : 03.05.2007 Date de dépôt international : 25.10.2006
CIB :
H01L 21/265 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 25, rue Leblanc, Immeuble "Le Ponant D", F-75015 Paris (FR) (Tous Sauf US).
EYMERY, Joël [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
POCHET, Pascal [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : EYMERY, Joël; (FR).
POCHET, Pascal; (FR)
Mandataire : SANTARELLI; B.P. 237, 14, avenue de la Grande Armée, F-75822 Paris Cedex 17 (FR)
Données relatives à la priorité :
0511079 28.10.2005 FR
Titre (EN) METHOD FOR MAKING A THIN-FILM STRUCTURE AND RESULTING THIN-FILM STRUCTURE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE EN COUCHES MINCES ET STRUCTURE EN COUCHES MINCES AINSI OBTENUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for making a thin-film structure comprising a thin film stabilized on a substrate (2). The structure of the thin film (1) is defined by a material which comprises at least one first chemical species. The method includes a step of inputting particles of the first chemical species into the thin film (1) so as to compensate for the flow of vacancies from the surface of said film.
(FR)Un procédé de fabrication d'une structure en couches minces comprend un film mince stabilisé sur un substrat (2). La structure du film mince (1) est définie par un matériau qui comprend au moins une première espèce chimique. On prévoit une étape d'apport de particules de la première espèce chimique dans le film mince (1) de manière à compenser le flux de lacunes provenant de la surface dudit film.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)