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1. (WO2007048433) SYSTÈME D'EXPOSITION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/048433    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/011593
Date de publication : 03.05.2007 Date de dépôt international : 28.10.2005
CIB :
H01J 37/04 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena (DE) (Tous Sauf US).
PLATZGUMMER, Elmar [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
KNIPPELMEYER, Rainer [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : PLATZGUMMER, Elmar; (AT).
KNIPPELMEYER, Rainer; (DE)
Mandataire : SCHORR, Frank; Augustenstrasse 46, 80333 München (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'EXPOSITION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé : front page image
(EN)A charged particle beam exposure system has a blanking aperture array (31) having groups of apertures (53) controlled by shift registers (75), wherein different inputs (C) to the shift registers influence a different number of apertures. Charged particle beamlets traversing the apertures are scanned across a charged particle sensitive substrate in synchronism with a clock signal of the shift registers.
(FR)L'invention concerne un système d'exposition de faisceau de particules chargées comportant un réseau (31) d'ouvertures d'effacement ayant des groupes d'ouvertures (53) commandés par des registres à décalage (75), des entrées (C) différentes sur les registres à décalage influençant un nombre différent d'ouvertures. Des mini-faisceaux de particules chargées traversant les ouvertures sont balayés sur un substrat sensible aux particules chargées en synchronisme avec un signal d'horloge des registres à décalage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)