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1. (WO2007048316) PATE D'ABRASION CHIMIQUE-MECANIQUE POUR COUCHE BARRIERE AU TANTALE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/048316    N° de la demande internationale :    PCT/CN2006/002620
Date de publication : 03.05.2007 Date de dépôt international : 08.10.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.08.2007    
CIB :
C09G 1/02 (2006.01)
Déposants : ANJI MICROELECTRONICS (SHANGHAI) CO., LTD [CN/CN]; Suite 613-618, The Fifth Bldg N?3000 Longdong Ave. Z hangjiang Hi-Tech Park P udong S hanghai 201203 (CN) (Tous Sauf US).
SONG, Peter, Weihong [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
CHEN, Jery, Guodong [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
GU, Yuan [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
XU, Sunny, Chun [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
SONG, Michael, Ying [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : SONG, Peter, Weihong; (CN).
CHEN, Jery, Guodong; (CN).
GU, Yuan; (CN).
XU, Sunny, Chun; (CN).
SONG, Michael, Ying; (CN)
Mandataire : ZHENGHAN LAW FIRM; 18 F, North Tower of Shanghai Stock Exchange Building 528 Pu Dong (South) Road Shanghai 200120 (CN)
Données relatives à la priorité :
200510030869.1 28.10.2005 CN
Titre (EN) A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PASTE FOR TANTALUM BARRIER LAYER
(FR) PATE D'ABRASION CHIMIQUE-MECANIQUE POUR COUCHE BARRIERE AU TANTALE
(ZH) 用于钽阻挡层的化学机械抛光浆料
Abrégé : front page image
(EN)A chemical mechanical polishing paste for tantalum barrier layer is disclosed, which comprises abrasive particles A, abrasive particles B with larger particle size than A, triazoles compound, organic acid and carrier. The present chemical mechanical polishing paste can significantly reduce defect, scratch, contaminant and other residual, and adjust the polishing selectivity for barrier and oxide layers by using different particles size. As a result, it solves the problem of difficultly adjusting the removing rate of two substrate separately, prevents the local and general corrosion during metal polishing, hence increases the acceptable quality level.
(FR)Une pâte d'abrasion chimique-mécanique pour couche barrière au tantale comprenant des particules abrasives A, des particules abrasives B à granulométrie supérieure à celle de A, des triazoles, un acide organique et un excipient. La pâte de cette invention permet de réduire considérablement les défauts, les éraflures, les polluants et d'autres résidus et de régler la sélectivité d'abrasion pour les couches barrière et d'oxyde selon le choix de la granulométrie. Ainsi, on résout le problème d'ajustement de la vitesse de suppression de deux substrats séparément, on évite la corrosion locale et générale pendant l'abrasion métallique, avec pour effet d'améliorer la qualité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)