WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007021654) APPAREIL DE REVELATION DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET PROCEDE D'EXPLOITATION DE LADITE RESINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/021654    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/030773
Date de publication : 22.02.2007 Date de dépôt international : 07.08.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.03.2007    
CIB :
B08B 3/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US) (Tous Sauf US).
BOYD, John, M. [CA/US]; (US) (US Seulement).
REDEKER, Fritz, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
HEMKER, David, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BOYD, John, M.; (US).
REDEKER, Fritz, C.; (US).
HEMKER, David, J.; (US)
Mandataire : WRIGHT, Kenneth; MARTINE PENILLA & GENCARELLA, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
11/204,907 15.08.2005 US
Titre (EN) APPARATUS FOR DEVELOPING PHOTORESIST AND METHOD FOR OPERATING THE SAME
(FR) APPAREIL DE REVELATION DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET PROCEDE D'EXPLOITATION DE LADITE RESINE PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)A first proximity head is configured to define a meniscus of a photoresist developer solution on a substrate. The meniscus is to be defined between a bottom of the first proximity head and the substrate. A second proximity head is configured to define a rinsing meniscus on the substrate and remove the rinsing meniscus from the substrate. The second proximity head is positioned to follow the first proximity head relative to a traversal direction of the first and second proximity heads over the substrate. Exposure of the substrate to the meniscus of photoresist developer solution causes previously irradiated photoresist material on the substrate to be developed to render a patterned photoresist layer. The first and second proximity heads enable precise control of a residence time of the photoresist developer solution on the substrate during the development process.
(FR)Une première tête de proximité est configurée pour définir un ménisque d'une solution de révélateur de résine photosensible sur un substrat. Le ménisque doit être défini entre une partie inférieure de la première tête de proximité et le substrat. Une deuxième tête de proximité est configurée pour définir un ménisque de rinçage sur le substrat et pour éliminer le ménisque de rinçage du substrat. La deuxième tête de proximité est positionnée pour suivre la première tête de proximité par rapport à une direction transversale de la première et de la deuxième tête de proximité sur le substrat. L'exposition du substrat au ménisque de la solution de révélateur de résine photosensible entraîne la révélation du matériau de résine photosensible préalablement irradié sur le substrat, en créant une couche de résine photosensible à motifs. La première et la deuxième tête de proximité permettent le contrôle précis du temps de pose de la solution de révélateur de résine photosensible sur le substrat, pendant le processus de développement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)