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1. (WO2007021130) PROCEDE DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE REVETEMENTS CONTENANT DES COMPOSANTS IONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2007/021130 N° de la demande internationale : PCT/KR2006/003208
Date de publication : 22.02.2007 Date de dépôt international : 17.08.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants : LG CHEM. LTD.[KR/KR]; 20, Yoido-dong, Youngdungpo-gu Seoul, 150-721, KR
Inventeurs : KIM, Dae-Hyun; KR
KIM, Ji-Su; KR
SHIN, Dong-Myung; KR
CHOI, Dong-Chang; KR
CHOI, Kyung-Soo; KR
JI, Ho-Chan; KR
CHA, Geun-Young; KR
KIM, Sung-Hyun; KR
Mandataire : HAN YANG PATENT FIRM; 9f Keungil Tower 677-25, Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul, 135-914, KR
Données relatives à la priorité :
10-2005-007519317.08.2005KR
Titre (EN) PATTERNING METHOD USING COATINGS CONTAINING IONIC COMPONENTS
(FR) PROCEDE DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE REVETEMENTS CONTENANT DES COMPOSANTS IONIQUES
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method of forming a pattern by means of coatings containing an ionic component having a positive or negative electric charge using electrostatic attraction force and/or repulsion force. In the method, it is possible to significantly improve precision and efficiency of the pattern formation.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation de motifs au moyen de revêtements contenant un composant ionique doté d'une charge électrique positive ou négative, en utilisant une force d'attraction et/ou de répulsion électrostatique. Le procédé permet d'améliorer de manière significative la précision et l'efficacité de la formation des motifs.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)