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1. (WO2007020781) PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE UN LIQUIDE DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2007/020781 N° de la demande internationale : PCT/JP2006/314923
Date de publication : 22.02.2007 Date de dépôt international : 27.07.2006
CIB :
C09D 185/00 (2006.01) ,C09D 5/25 (2006.01) ,C09D 7/12 (2006.01) ,C09D 183/00 (2006.01) ,C09D 183/02 (2006.01) ,H01L 21/312 (2006.01) ,H01L 21/316 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01)
Déposants : NUMAJIRI, Satoru[JP/JP]; JP (UsOnly)
MOTOYAMA, Kenichi[JP/JP]; JP (UsOnly)
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : NUMAJIRI, Satoru; JP
MOTOYAMA, Kenichi; JP
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho Chiyoda-ku, Tokyo 101-0035, JP
Données relatives à la priorité :
2005-23905719.08.2005JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING COATING LIQUID FOR FILM FORMATION
(FR) PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE UN LIQUIDE DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM
(JA) 被膜形成用塗布液の製造方法
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method for producing a coating liquid which enables to form a coating film that is sufficiently cured under low-temperature curing conditions and enables to form an alignment film thereon which is suppressed in repelling or pinholes. Specifically disclosed is a method for producing a coating liquid for film formation characterized by comprising a step for obtaining a solution which contains a condensation product produced by subjecting a metal alkoxide (A) to a hydrolysis-condensation reaction in a solvent (B) [step 1], and a step for obtaining a solution by substituting the solution obtained in step 1 with a solvent (C) [step 2]. In this connection, the metal alkoxide (A) is at least one metal alkoxide selected from compounds represented by the following formula (1): Ti(OR1)4 (1) (wherein R1 represents an alkyl group having 1-5 carbon atoms); the solvent (B) is at least one organic solvent selected from the group consisting of alcohols having 1-10 carbon atoms, esters having 2-5 carbon atoms, tetrahydrofuran, and ethers having 2-5 carbon atoms; and the solvent (C) is at least one organic solvent selected from glycols having 2-10 carbon atoms.
(FR) Il est exposé un procédé servant à produire un liquide de revêtement lequel permet de former un film de revêtement qui est suffisamment durci dans des conditions de durcissement à basse température et permet la formation sur celui-ci d'un film d'égalisation qui ne présente plus de caractère répulsif ou de trous d'épingle. Il est précisément exposé un procédé servant à produire un liquide de revêtement pour la formation d'un film caractérisé en ce qu'il comprend une étape permettant d'obtenir une solution qui contient un produit de condensation produit en soumettant un alcoxyde de métal (A) à une réaction d'hydrolyse-condensation dans un solvant (B) [étape 1] et une étape permettant d'obtenir une solution en remplaçant le solvant de la solution obtenue dans l'étape 1 par un solvant (C) [étape 2]. A cet égard, l'alcoxyde de métal (A) est au moins un alcoxyde de métal sélectionné parmi des composés représentés par la formule (1) suivante : Ti(OR1)4 (1) (où R1 représente un groupe alkyle ayant 1-5 atomes de carbone) ; le solvant (B) est au moins un solvant organique sélectionné dans le groupe constitué d'alcools ayant 1-10 atomes de carbone, d'esters ayant 2-5 atomes de carbone, du tétrahydrofurane et d'éthers ayant 2-5 atomes de carbone ; et le solvant (C) est au moins un solvant organique sélectionné parmi des glycols ayant 2-10 atomes de carbone.
(JA)  低温の硬化条件で十分に硬化する被膜を形成でき、その被膜上にはじきやピンホールを抑制した配向膜を形成することができる被膜形成用塗布液の製造方法を提供する。  金属アルコキシド(A)を溶媒(B)中で加水分解・縮合反応して生成する縮合物を含有する溶液を得る[工程1]と、上記[工程1]で得られた溶液を溶媒(C)で置換した溶液を得る[工程2]と、を含むことを特徴とする被膜形成用塗布液の製造方法。  但し、金属アルコキシド(A)は、式(1)で表される化合物(式中、Rは炭素数1~5のアルキル基を表す)から選ばれる少なくとも1種の金属アルコキシドであり; Ti(OR1)4  (1) 溶媒(B)は、炭素数1~10のアルコール、炭素数2~5のエステル、テトラヒドロフラン及び炭素数2~5のエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶媒であり;溶媒(C)は、炭素数2~10のグリコールから選ばれる少なくとも1種の有機溶媒である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)