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1. (WO2007020004) OBJECTIF DE PROJECTION ET PROCEDE POUR OPTIMISER UN OBTURATEUR DE SYSTEME D'UN OBJECTIF DE PROJECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/020004    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/007904
Date de publication : 22.02.2007 Date de dépôt international : 10.08.2006
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
SCHUSTER, Karl-Heinz [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHUSTER, Karl-Heinz; (DE)
Mandataire : HETTERICH, Winfried; c/o Carl Zeiss AG, 73446 Oberkochen (DE)
Données relatives à la priorité :
60/709,177 17.08.2005 US
Titre (DE) PROJEKTIONSOBJEKTIV UND VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG EINER SYSTEMBLENDE EINES PROJEKTIONSOBJEKTIVS
(EN) PROJECTION OBJECTIVE AND METHOD FOR OPTIMIZING A SYSTEM DIAPHRAGM OF A PROJECTION OBJECTIVE
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION ET PROCEDE POUR OPTIMISER UN OBTURATEUR DE SYSTEME D'UN OBJECTIF DE PROJECTION
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv (7), insbesondere für eine Mikrolithographie-Belichtungsanlage, zur Abbildung eines Objektfelds (5) in einer Objektebene (4) auf ein Bildfeld (9) in einer Bildebene (8). Das Projektionsobjektiv (7) weist eine Systemblende (1 1) und refraktive und/oder reflektive optische Elemente auf, die relativ zu einer optischen Systemachse (10) angeordnet sind. Der Flächenschwerpunkt des Bildfeldes (5) ist in einem lateralen Abstand zur optischen Systemachse (10) angeordnet. Die Systemblende (1 1) weist einen inneren Blendenrand (15) auf, der eine Blendenöffnung (14) umschließt und dessen Form durch eine Berandungskurve definiert ist. Die Berandungskurve verläuft wenigstens bereichsweise außerhalb einer Ebene, die senkrecht zur optischen Systemachse (10) aufgespannt ist.
(EN)The invention relates to a projection objective (7), especially for a microlithography exposure system, for imaging an object field (5) in an object plane (4) onto an image field (9) in an image plane (8). Said projection objective (7) has a system diaphragm (11) and refractive and/or reflective optical elements that are disposed in relation to an optical system axis (10). The centroid of the image field (5) is disposed at a lateral distance to the optical system axis (10). The system diaphragm (11) has an inner diaphragm edge (15) that surrounds a diaphragm aperture (14) and whose shape is defined by a contour. Said contour extends at least partially outside a plane that is defined to be perpendicular to the optical system axis (10).
(FR)La présente invention concerne un objectif de projection (7), en particulier pour une installation d'éclairage microlithographique, conçu pour représenter un champ objet (5) dans un plan objet (4) sur un champ image (9) dans un plan image (8). L'objectif de projection (7) présente un obturateur de système (11) et des éléments optiques de réfraction et/ou de réflexion qui sont montés par rapport à un axe optique du système (10). Le centroïde du champ image (5) se trouve à une distance latérale de l'axe optique du système (10). L'obturateur de système (11) présente un bord d'obturateur interne (15) qui entoure une ouverture d'obturateur (14) et dont la forme est définie par une courbe de bord. La courbe de bord s'étend au moins par endroits à l'extérieur d'un plan qui est perpendiculaire à l'axe optique du système (10).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)