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1. (WO2007017089) OBJECTIF DE PROJECTION D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/017089    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/007273
Date de publication : 15.02.2007 Date de dépôt international : 24.07.2006
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 7/00 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
CONRADI, Olaf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BITTNER, Boris [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BLEIDISTEL, Sascha [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HAUF, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HUMMEL, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KAZI, Arif [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
TROSSBACH, Bärbel [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WEBER, Jochen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOLDERER, Hubert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
TAYEBATI, Payam [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : CONRADI, Olaf; (DE).
BITTNER, Boris; (DE).
BLEIDISTEL, Sascha; (DE).
HAUF, Markus; (DE).
HUMMEL, Wolfgang; (DE).
KAZI, Arif; (DE).
TROSSBACH, Bärbel; (DE).
WEBER, Jochen; (DE).
HOLDERER, Hubert; (DE).
TAYEBATI, Payam; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
60/702,137 25.07.2005 US
Titre (EN) PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator (M; M') for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens (52; 52') , an optical element (50; 50') and an interspace (54; 54') formed between the lens (52; 52') and the optical element (50; 50'), which can be filled with a liquid (62). At least one actuator (711 to 718) acting exclusively on the lens (52; 52') is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.
(FR)L'invention concerne un objectif de projection d'un appareil d'exposition par projection microlithographique, qui comprend un manipulateur (M; M') destiné à réduire les erreurs d'images asymétriques à la rotation. Le manipulateur comprend à son tour une lentille (52; 52'), un élément optique (50; 50') et un espace interne (54; 54') formé entre la lentille (52; 52') et l'élément optique (50; 50') et pouvant être rempli avec un liquide (62). On décrit en outre au moins un actionneur (711 à 718) agissant exclusivement sur la lentille (52; 52') et pouvant créer une déformation asymétrique à la rotation de la lentille.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)