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1. (WO2007016011) CAPTEUR A JONCTION TUNNEL MAGNETIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/016011    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/028576
Date de publication : 08.02.2007 Date de dépôt international : 24.07.2006
CIB :
G01R 33/02 (2006.01)
Déposants : FREESCALE SEMICONDUCTOR [US/US]; 6501 William Cannon Drive West, Austin, Texas 78735 (US) (Tous Sauf US).
CHUNG, Young Sir [KR/US]; (US) (US Seulement).
BAIRD, Robert, W. [US/US]; (US) (US Seulement).
ENGEL, Bradley, N. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHUNG, Young Sir; (US).
BAIRD, Robert, W.; (US).
ENGEL, Bradley, N.; (US)
Mandataire : KING, Robert, L.; 7700 W. Parmer Lane, MD:PL02, Austin, Texas 78729 (US)
Données relatives à la priorité :
11/192,569 29.07.2005 US
Titre (EN) MAGNETIC TUNNEL JUNCTION SENSOR
(FR) CAPTEUR A JONCTION TUNNEL MAGNETIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus are provided for sensing physical parameters. The apparatus (130) comprises a magnetic tunnel junction (MTJ) (32) and a magnetic field source (34) whose magnetic field (35) overlaps the MTJ and whose proximity to the MTJ varies in response to an input to the sensor. The MTJ comprises first and second magnetic electrodes (36, 38) separated by a dielectric (37) configured to permit significant tunneling conduction therebetween. The first magnetic electrode has its spin axis pinned and the second magnetic electrode has its spin axis free. The magnetic field source is oriented closer to the second magnetic electrode than the first magnetic electrode. The overall sensor dynamic range is extended by providing multiple electrically coupled sensors receiving the same input but with different individual response curves and desirably but not essentially formed on the same substrate (72).
(FR)La présente invention se rapporte à des procédés et à un appareil de détection de paramètres physiques. L'appareil (130) selon l'invention comprend une jonction tunnel magnétique (MTJ) (32), et une source de champ magnétique (MFS) (34) dont le champ magnétique (35) chevauche la MTJ et dont la proximité par rapport à cette dernière varie en réponse à des données d'entrée introduites dans le capteur. Un blindage magnétique (33) est disposé au moins sur une face de la MFS éloignée de la MTJ. La MTJ comporte des première et seconde électrodes magnétiques (36, 38), qui sont séparées par un diélectrique (37) adapté pour permettre une conduction tunnel importante entre les deux électrodes. L'axe de rotation de la première électrode magnétique est claveté, tandis que l'axe de rotation de la seconde électrode magnétique est libre. La source de champ magnétique est orientée de façon à être plus proche de la seconde électrode magnétique que de la première électrode magnétique. La gamme dynamique globale du capteur est élargie par la présence de multiples capteurs couplés par voie électrique, qui reçoivent les mêmes données d'entrée mais présentent des courbes de réponse individuelles différentes, et sont de préférence mais non obligatoirement formés sur le même substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)