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1. (WO2007015933) PROCEDE ET DISPOSITIF DESTINES A REALISER UNE PULVERISATION SUR DES PANNEAUX PLATS DE GRANDE TAILLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/015933    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/028178
Date de publication : 08.02.2007 Date de dépôt international : 20.07.2006
CIB :
C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIAL, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
LE, Hien-Ming, Huu [US/US]; (US) (US Seulement).
HOSOKAWA, Akihiro [JP/US]; (US) (US Seulement).
TEPMAN, Avi [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LE, Hien-Ming, Huu; (US).
HOSOKAWA, Akihiro; (US).
TEPMAN, Avi; (US)
Mandataire : GUENZER, Charles, S.; APPLIED MATERIALS, INC., 2211 PARK BOULEVARD, P.O. Box 60729, Palo Alto, CA 94306 (US)
Données relatives à la priorité :
60/702,327 25.07.2005 US
60/705,031 02.08.2005 US
11/211,141 24.08.2005 US
11/484,333 11.07.2006 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING ONTO LARGE FLAT PANELS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DESTINES A REALISER UNE PULVERISATION SUR DES PANNEAUX PLATS DE GRANDE TAILLE
Abrégé : front page image
(EN)A rectangular magnetron (160) placed at the back of a rectangular sputter target (16) and having magnets (164) of opposed polarities arranged to form a gap therebetween. corresponding to a plasma track adjacent the target to intensify the plasma causing material sputtered from the target to coat a rectangular panel (14). The gap extends in a closed loop having a serpentine or spiral shape. The magnetron has a size only somewhat less than that of the target and is scanned in the two perpendicular directions of the target with a scan length of, for example, about 100mm for a 2m target. The scan may follow a double-Z pattern along two links parallel to a target side and the two connecting diagonals. External actuators (416) move the magnetron along a two-dimensional path as it is slidably suspended from a gantry (364) sliding perpendicularly on the chamber walls (276).
(FR)L'invention concerne un magnétron rectangulaire (160) placé à l'arrière d'une cible de pulvérisation rectangulaire (16) et comprenant des aimants (164) de polarités opposées conçus pour former un espace intermédiaire correspondant à un canal de plasma au voisinage de la cible en vue d'une intensification du plasma, ce qui amène la matière pulvérisée à partir de la cible à revêtir un panneau rectangulaire (14). L'espace s'étend en une boucle fermée présentant une forme de serpentin ou de spirale. Le magnétron présente une taille légèrement inférieure à celle de la cible et est balayé dans les deux sens perpendiculaires de la cible avec une longueur de balayage, par exemple, d'environ 100 mm pour une cible de 2 m. Le balayage peut suivre un motif en double Z le long de deux droites de jonction parallèles à un côté de la cible et des deux diagonales de liaison. Des actionneurs externes (416) déplacent le magnétron le long d'un chemin bidimensionnel, ledit magnétron étant suspendu coulissant sur un support (364) coulissant perpendiculairement sur les parois de la chambre (276).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)