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1. (WO2007013881) SELECTION ET DEPOT DE NANOPARTICULES A L'AIDE DE LIQUIDES EXPANSES PAR DU CO2
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/013881    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/034970
Date de publication : 01.02.2007 Date de dépôt international : 27.09.2005
CIB :
C30B 29/60 (2006.01), C30B 7/00 (2006.01), B01J 2/04 (2006.01)
Déposants : AUBURN UNIVERSITY [US/US]; 215 East Thach Avenue, Auburn, AL 36830 (US) (Tous Sauf US).
ROBERTS, Christopher, B. [US/US]; (US) (US Seulement).
McLEOD, Marshall, Chandler [US/US]; (US) (US Seulement).
ANAND, Madhu [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ROBERTS, Christopher, B.; (US).
McLEOD, Marshall, Chandler; (US).
ANAND, Madhu; (US)
Mandataire : OWENS, Jonathan, O.; Haverstock & Owens LLP, 162 North Wolfe Road, Sunnyvale, California 94086 (US)
Données relatives à la priorité :
60/613,249 27.09.2004 US
60/613,562 27.09.2004 US
60/708,685 15.08.2005 US
Titre (EN) SELECTION AND DEPOSITION OF NANOPARTICLES USING CO2-EXPANDED LIQUIDS
(FR) SELECTION ET DEPOT DE NANOPARTICULES A L'AIDE DE LIQUIDES EXPANSES PAR DU CO2
Abrégé : front page image
(EN)A method for size selection of nanostructures comprising utilizing a gas-expanded liquids (GEL) and controlled pressure to precipitate desired size populations of nanostructures, e.g., monodisperse. The GEL can comprise CO2 antisolvent and an organic solvent. The method can be carried out in an apparatus comprising a first open vessel configured to allow movement of a liquid/particle solution to specific desired locations within the vessel, a second pressure vessel, a location controller for controlling location of the particles and solution within the first vessel, a inlet for addition of antisolvent to the first vessel, and a device for measuring the amount of antisolvent added. Also disclosed is a method for forming nanoparticle thin films comprising utilizing a GEL containing a substrate, pressurizing the solution to precipitate and deposit nanoparticles onto the substrate, removing the solvent thereby leaving a thin nanoparticle film, removing the solvent and antisolvent, and drying the film.
(FR)L'invention concerne un procédé de sélection de taille de nanostructures consistant à utiliser des liquides expansés par du gaz (GEL) et une pression contrôlée pour précipiter des populations de taille souhaitée de nanostructures, par ex., monodispersées. Les GEL peuvent comprendre un antisolvant tel que du CO2 et un solvant organique. Le procédé peut être mis en oeuvre dans un appareil comprenant un premier récipient ouvert conçu pour permettre le déplacement d'une solution de liquide/particules vers des emplacements souhaités spécifiques dans le récipient, un second récipient sous pression, un contrôleur d'emplacement permettant de contrôler l'emplacement des particules et de la solution dans le premier récipient, une entrée pour l'addition d'antisolvant dans le premier récipient, ainsi qu'un dispositif permettant de mesurer la quantité d'antisolvant ajoutée. L'invention concerne également un procédé de formation de couches minces de nanoparticules consistant à utiliser un GEL contenant un substrat, à mettre sous pression la solution afin de précipiter et déposer les nanoparticules sur le substrat, à éliminer le solvant de manière à ainsi laisser une couche mince de nanoparticules, à éliminer le solvant et l'antisolvant, et à sécher la couche mince.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)