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1. (WO2007013471) COMPOSES, PROCEDE DE FABRICATION DE CES COMPOSES, COMPOSES DE FAIBLE MASSE MOLECULAIRE, COMPOSITIONS DE RESIST POSITIF ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIFS DE RESIST
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/013471    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/314696
Date de publication : 01.02.2007 Date de dépôt international : 25.07.2006
CIB :
C07C 59/70 (2006.01), C07C 51/09 (2006.01), C07C 51/353 (2006.01), C07C 65/105 (2006.01), C07C 69/736 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
SHIONO, Daiju [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIONO, Daiju; (JP).
HIRAYAMA, Taku; (JP).
HADA, Hideo; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-214219 25.07.2005 JP
2005-294531 07.10.2005 JP
2005-298711 13.10.2005 JP
Titre (EN) COMPOUNDS, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, LOW-MOLECULAR COMPOUNDS, POSITIVE RESIST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERNS
(FR) COMPOSES, PROCEDE DE FABRICATION DE CES COMPOSES, COMPOSES DE FAIBLE MASSE MOLECULAIRE, COMPOSITIONS DE RESIST POSITIF ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIFS DE RESIST
(JA) 化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Compounds represented by the general formula (I) or (I’) wherein R11 to R13 are each alkyl having 1 to 10 carbon atoms; s is an integer of 1 to 2; t is an integer of 1 to 3; u is an integer of 1 to 3; the sum of s, t and u is an integer of 3 to 5; q is an integer of 0 to 2; r is an integer of 1 to 3; and p is 1 or 2.
(FR)L'invention concerne des composés représentés par la formule générale (I) ou (I’), où les groupements R11 à R13 sont chacun des alkyles ayant de 1 à 10 atomes de carbone ; s est un entier compris entre 1 et 2 ; t est un entier compris entre 1 et 3 ; u est un entier compris entre 1 et 3 ; la somme de s, t et u est un entier compris entre 3 et 5 ; q est un entier compris entre 0 et 2 ; r est un entier compris entre 1 et 3 ; et p vaut 1 ou 2.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)