WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007009634) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LE REVETEMENT PAR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE GAZEUSE A PLUSIEURS CATHODES ET SUBSTRAT MUNI D'UN REVETEMENT PAR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE GAZEUSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2007/009634 N° de la demande internationale : PCT/EP2006/006768
Date de publication : 25.01.2007 Date de dépôt international : 11.07.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 19.12.2006
CIB :
H01J 37/34 (2006.01) ,C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : MÜNZ, Wolf-Dieter[AT/AT]; AT (UsOnly)
HOFMANN, Dieter[DE/DE]; DE (UsOnly)
KUNKEL, Stefan[DE/DE]; DE (UsOnly)
MANGOLD, Jürgen[DE/DE]; DE (UsOnly)
SCHÜSSLER, Hans[DE/DE]; DE (UsOnly)
SYSTEC SYSTEM- UND ANLAGENTECHNIK GMBH & CO. KG[DE/DE]; Johann-Schöner-Strasse 73 97753 Karlstadt, DE (AllExceptUS)
Inventeurs : MÜNZ, Wolf-Dieter; AT
HOFMANN, Dieter; DE
KUNKEL, Stefan; DE
MANGOLD, Jürgen; DE
SCHÜSSLER, Hans; DE
Mandataire : ZOUNEK, Nikolai ; Zounek Plate Schweitzer Rheingaustrasse 196 65203 Wiesbaden, DE
Données relatives à la priorité :
10 2005 033 769.415.07.2005DE
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR MULTI-CATHODE-PVD-COATING AND SUBSTRATE HAVING PVD-COATING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LE REVETEMENT PAR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE GAZEUSE A PLUSIEURS CATHODES ET SUBSTRAT MUNI D'UN REVETEMENT PAR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE GAZEUSE
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR MEHRKATHODEN-PVD-BESCHICHTUNG UND SUBSTRAT MIT PVD-BESCHICHTUNG
Abrégé : front page image
(EN) The invention relates to a method for operating a multi-cathode-PVD-coating system. According to the invention, one part of the cathodes operates after the high power impulse cathodic sputtering which is assisted by magnetic fields and the remainder operates after the direct current magnetic field assisted cathodic sputtering. The high power impulse cathodic sputtering which is assisted by magnetic fields is used as a source of multi-ionised metal ions during the ion-assisted in vacuo pre-treatment of substrates, whilst both types of cathodic sputtering are always used simultaneously during coating and whilst both types of cathodes are connected to different materials.
(FR) L'invention concerne un procédé pour le fonctionnement d'une installation de revêtement par dépôt physique en phase gazeuse à plusieurs cathodes, selon lequel une partie des cathodes fonctionne après la pulvérisation cathodique à impulsions haute puissance assistée par champ magnétique et le reste des cathodes fonctionne après la pulvérisation cathodique à courant continu assistée par champ magnétique. Seule la pulvérisation cathodique à impulsions haute puissance assistée par champ magnétique est utilisée comme source d'ions métalliques ionisés plusieurs fois pendant le traitement préalable assisté par ions du substrat in vacuo, alors que les deux types de pulvérisation cathodique sont toujours mis en oeuvre simultanément pendant le revêtement et que les deux types de cathodes sont enduits de matériaux différents.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb einer Mehrkathoden-PVD-Beschichtungsanlage, wobei ein Teil der Kathoden nach der magnetfeldunterstützten Hochleistungs-Impuls-Kathodenzerstäubung und der Rest nach der magnetfeldunterstützten Kathodenzerstäubung mit Gleichstrom betrieben wird. Während der ionenunterstützten in vacuo Substratvorbehandlung wird alleine die magnetfeldunterstützte Hochleistungs-Impuls-Kathodenzerstäubung als Quelle mehrfach ionisierter Metall-Ionen benutzt, während bei der Beschichtung grundsätzlich beide Kathodenzerstäubungstypen simultan zum Einsatz gebracht werden und beide Kathodentypen mit unterschiedlichen Materialien belegt werden.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)