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1. (WO2007008773) FORMULATIONS DE SILICONE RESISTANTES AU RAYONNEMENT ET DISPOSITIF MEDICAUX FORMES A PARTIR DE CELLES-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/008773    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/026699
Date de publication : 18.01.2007 Date de dépôt international : 11.07.2006
CIB :
C08L 83/04 (2006.01), C08K 5/54 (2006.01), A61M 39/00 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN PERFORMANCE PLASTICS CORPORATION [US/US]; 1199 Chillicothe Road, Aurora, OH 44202 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : SIMON, Mark, W.; (US)
Mandataire : LARSON NEWMAN ABEL POLANSKY & WHITE; 5914 West Courtyard Drive, Suite 200, Austin, TX 78730 (US)
Données relatives à la priorité :
11/179,030 11.07.2005 US
11/179,031 11.07.2005 US
11/179,032 11.07.2005 US
Titre (EN) RADIATION RESISTANT SILICONE FORMULATIONS AND MEDICAL DEVICES FORMED OF SAME
(FR) FORMULATIONS DE SILICONE RESISTANTES AU RAYONNEMENT ET DISPOSITIF MEDICAUX FORMES A PARTIR DE CELLES-CI
Abrégé : front page image
(EN)The disclosure is directed to a polymeric material formed of a composition including polyalkylsiloxane and a radiation resistant component. The radiation resistant component is included in an amount of about 0.1 wt % to about 20 wt % based on the weight of the polyalkylsiloxane.
(FR)L'invention concerne un matériau polymère constitué par une composition comprenant du polyalkylsiloxane et un composant résistant au rayonnement. Le composant résistant au rayonnement est présent à une quantité comprise entre environ 0,1 % en poids et environ 20 % en poids en fonction du poids du polyalkylsiloxane.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)