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1. (WO2007008742) OPTIMISATION D'UTILISATION ET DE PERFORMANCE DE SYSTEMES OPTIQUES MIS EN OEUVRE AVEC UNE ILLUMINATION A CHAMP SOMBRE SUR AXE TELECENTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/008742    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/026649
Date de publication : 18.01.2007 Date de dépôt international : 07.07.2006
CIB :
G01N 21/88 (2006.01)
Déposants : ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC. [US/US]; 13900 NW Science Park Drive, Portland, OR 97229-5497 (US) (Tous Sauf US).
BALDWIN, Leo [CA/US]; (US) (US Seulement).
EMERY, Joseph, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BALDWIN, Leo; (US).
EMERY, Joseph, J.; (US)
Mandataire : ANGELLO, Paul, S.; Stoel Rives, LLP, 900 S.w. Fifth Avenue, Suite 2600, Portland, OR 97204 (US)
Données relatives à la priorité :
60/697,904 08.07.2005 US
Titre (EN) OPTIMIZING USE AND PERFORMANCE OF OPTICAL SYSTEMS IMPLEMENTED WITH TELECENTRIC ON-AXIS DARK FIELD ILLUMINATION
(FR) OPTIMISATION D'UTILISATION ET DE PERFORMANCE DE SYSTEMES OPTIQUES MIS EN OEUVRE AVEC UNE ILLUMINATION A CHAMP SOMBRE SUR AXE TELECENTRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Systems and methods are provided for imaging a planar specular object (102) such as a semiconductor wafer. In one embodiment, an imaging system (100) for imaging a defect on a planar specular object (102) includes a telecentric lens (110) having a sufficiently aspherical surface such that the telecentric lens (110) is substantially corrected for an optical aberration. The imaging system (100) also includes a telecentric stop (116) including an aperture therein to block light reflected from the planar specular object (102) while allowing light reflected from the defect to pass through the aperture. The imaging system (100) further includes a lens group (108) having a system stop positioned between the telecentric stop (116) and the lens group (108). The lens group (108) is substantially corrected for the optical aberration independent of the telecentric lens (110).
(FR)L'invention concerne des systèmes et des procédés destinés à l'imagerie d'un objet spéculaire plan (102), tel qu'une plaquette à semi-conducteur. Dans une forme d'exécution, un système d'imagerie (100) pour l'imagerie d'un défaut sur un objet spéculaire plan (102) comprend une lentille télécentrique (110) ayant une surface suffisamment asphérique pour que la lentille télécentrique (110) soit sensiblement corrigée quant à l'aberration optique. Le système d'imagerie (100) comprend également un système d'arrêt télécentrique (116) comprenant une ouverture destinée à bloquer la lumière réfléchie par l'objet spéculaire plan (102), tout en permettant à la lumière réfléchie par le défaut de passer à travers l'ouverture. Le système d'imagerie (100) comprend en outre un groupe de lentilles (108) ayant un système d'arrêt positionné entre le système d'arrêt télécentrique (116) et le groupe de lentilles (108). Le groupe de lentilles (108) est sensiblement corrigé quant à l'aberration optique, indépendamment de la lentille télécentrique (110).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)