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1. (WO2007007564) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATERIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE, ET PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE UTILISANT LE MATERIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/007564    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/313053
Date de publication : 18.01.2007 Date de dépôt international : 30.06.2006
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 26-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630512 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUMURA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUMURA, Toshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-205663 14.07.2005 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL, AND METHOD FOR IMAGE FORMATION WITH PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATERIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE, ET PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE UTILISANT LE MATERIAU POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料および感光性平版印刷版材料の画像形成方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a photosensitive composition comprising (A) a polymerizable ethylenical double bond-containing compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a polymeric binder, and (D) a coloring matter having an absorption maximum wavelength of 350 to 450 nm, characterized in that the coloring matter (D) having an absorption maximum wavelength of 350 to 450 nm is a compound represented by general formula (1). There are also provided a photosensitive lithographic printing plate material, which is suitable for exposure with a laser beam in a luminescence wavelength range of 350 to 450 nm, and has excellent sensitivity and printing durability, and a method for image formation using the material.
(FR)Cette invention concerne une composition photosensible comprenant (A) un composé polymérisable contenant des doubles liaisons éthyléniques, (B) un amorceur de photopolymérisation, (C) un liant polymérique, et (D) un colorant présentant une longueur d'onde maximale d'absorption comprise entre 350 et 450 nm, caractérisée en ce que le colorant (D) présentant une longueur d'onde maximale d'absorption comprise entre 350 et 450 nm est un composé représenté par la formule générale (1). L'invention concerne également un matériau pour plaque d'impression lithographique photosensible, adapté à une exposition à un rayon laser dans une gamme de longueurs d'onde de luminescence allant de 350 à 450 nm, et présentant une excellente sensibilité et une excellente durabilité d'impression, ainsi qu'un procédé de formation d'image utilisant ce matériau. [Formule chimique 1] Formule générale (1)
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)