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1. (WO2007007231) FOND LIQUIDE, PROCEDE DE MAQUILLAGE ET KIT POUR METTRE EN OEUVRE CE PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/007231    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/052239
Date de publication : 18.01.2007 Date de dépôt international : 04.07.2006
CIB :
A61K 8/19 (2006.01), A61Q 1/08 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14 Rue Royale, F-75008 Paris (FR) (Tous Sauf US).
THEVENET, Ludovic [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : THEVENET, Ludovic; (FR)
Mandataire : TANTY, François; NONY & PARTNERS, 3 Rue De Penthièvre, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
05 52121 08.07.2005 FR
60/704,425 02.08.2005 US
Titre (EN) LIQUID FOUNDATION, A MAKEUP METHOD, AND A KIT FOR IMPLEMENTING SUCH A METHOD
(FR) FOND LIQUIDE, PROCEDE DE MAQUILLAGE ET KIT POUR METTRE EN OEUVRE CE PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a foundation including at least one coloring agent having non-zero magnetic susceptibility, the foundation presenting in bulk a hue angle h lying in the range 30° to 70° and lightness L* lying in the range 25 to 80, the coloring agent being selected in such a manner that the foundation, under the action of a magnetic field, can present maximum variation in hue angle &Dgr;hmax that is less than or equal to 5°, and variation in lightness &Dgr;L* that is greater than or equal to 4.
(FR)La présente invention concerne un fond comprenant au moins un agent de couleur possédant un coefficient d'aimantation non égal à zéro, le fond présentant un angle de phase h situé dans une gamme 30° à 70° et une luminosité L* située dans une gamme de 25 à 80, l'agent de couleur étant sélectionné de manière à ce que le fond, sous l'effet du champ magnétique, puisse présenter une variation maximale d'angle de phase de ?hmax, qui est inférieure ou égale à 5°, et une variation de luminosité ?L* qui est égale ou supérieure à 4.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)