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1. (WO2007006674) PROCEDE POUR PRODUIRE SUR UN SUBSTRAT UNE COUCHE PRESENTANT DES NANOPARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/006674    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/063778
Date de publication : 18.01.2007 Date de dépôt international : 03.07.2006
CIB :
C23C 24/04 (2006.01), C23C 24/00 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2, 80333 München (DE) (Tous Sauf US).
JABADO, Rene [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KRÜGER, Ursus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KÖRTVELYESSY, Daniel [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LÜTHEN, Volkmar [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
REICHE, Ralph [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
RINDLER, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : JABADO, Rene; (DE).
KRÜGER, Ursus; (DE).
KÖRTVELYESSY, Daniel; (DE).
LÜTHEN, Volkmar; (DE).
REICHE, Ralph; (DE).
RINDLER, Michael; (DE)
Représentant
commun :
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT; Postfach 22 16 34, 80506 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2005 032 711.7 07.07.2005 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER NANOPARTIKEL AUFWEISENDEN SCHICHT AUF EINEM SUBSTRAT
(EN) METHOD FOR PRODUCING A LAYER, WHICH HAS NANOPARTICLES, ON A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE SUR UN SUBSTRAT UNE COUCHE PRESENTANT DES NANOPARTICULES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Nanopartikel (40) aufweisenden Schicht (110) auf einem Substrat (100). Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen einer Nanopartikel enthaltenden Schicht anzugeben, das sich besonders einfach durchführen lässt und dennoch einen sehr großen Spielraum bei der Ausgestaltung und der Zusammensetzung der herzustellenden Schicht bietet. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass in einer ersten Prozesskammer (10) Nanopartikel (40) freigesetzt werden und ein Nanopartikelstrom (50) erzeugt wird, der Nano- partikelstrom (50) in eine zweite Prozesskammer (80) geleitet wird und die Nanopartikel (40) in der zweiten Prozesskammer (80) auf dem Substrat (100) abgeschieden werden.
(EN)The invention relates to a method for producing a layer (110), which has nanoparticles (40), on a substrate (100). The aim of the invention is to provide a method for producing a layer containing nanoparticles, which can be carried out particularly easily while still offering a high amount of flexibility in the design and the composition of the layer to be produced. To this end, the invention provides that, in a first process chamber (10), nanoparticles (40) are released and a nanoparticle flow (50) is generated. The nanoparticle flow (50) is directed into a second process chamber (80), and the nanoparticles (40) are deposited onto the substrate (100) in the second process chamber (80).
(FR)La présente invention concerne un procédé pour produire sur un substrat (100) une couche (110) présentant des nanoparticules (40). L'objectif de la présente invention est de mettre au point un procédé pour produire une couche présentant des nanoparticules qui soit particulièrement facile à mettre en oeuvre, tout en offrant une très grande marge dans l'agencement et la composition de la couche à produire. Cet objectif est atteint en ce que des nanoparticules (40) sont libérées dans une première chambre de processus (10), un flux de nanoparticules (50) est produit, ce flux de nanoparticules (50) est transféré dans une seconde chambre de processus (80), puis les nanoparticules (40) dans la seconde chambre de processus (80) sont déposées sur le substrat (100).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)