WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007004396) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOYEN D'AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE ET CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/004396    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/311923
Date de publication : 11.01.2007 Date de dépôt international : 14.06.2006
CIB :
G02F 1/167 (2006.01)
Déposants : BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 15-1, Naeshiro-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678561 (JP) (Tous Sauf US).
TOYODA, Yoshito [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOYODA, Yoshito; (JP)
Mandataire : KITAZAWA, Kazuhiro; 6F, First Genesis Bldg. 31-14, Yushima 2-chome Bunkyo-ku, Tokyo 113-0034 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-191462 30.06.2005 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHORETIC DISPLAY MEDIUM, AND ELECTROPHORETIC DISPLAY MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOYEN D'AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE ET CE DERNIER
(JA) 電気泳動表示媒体の製造方法及び電気泳動表示媒体
Abrégé : front page image
(EN)A first substrate (120) and a second substrate (110) are arranged by having at least a distance between a plane, which is of a partitioning member (123) arranged on the first substrate (120) and faces the second substrate (110), and the second substrate (110) to be wide when charged particles (305) are applied and to be narrow when being sealed or displaying an image so that the charged particles (305) do not freely pass through.
(FR)La présente invention concerne un premier substrat (120) et un second substrat (110) qui sont disposés en ayant au moins une distance entre un plan, constitué d'un élément de séparation (123) disposé sur le premier substrat (120) et faisant face au second substrat (110), et le second substrat (110) étant large lorsque des particules chargées (305) sont appliquées et étant étroite lors de son obturation ou de l'affichage d'une image de manière à ce que les particules chargées (305) ne traversent pas librement.
(JA) 少なくとも第一基板(120)に設けられた区画部材(123)における第二基板(110)と対向する面と、第二基板(110)との距離を、荷電粒子(305)の充填時には広く、封止時及び画像表示時には前記荷電粒子(305)が自由に通過することが出来ないように狭くして、前記第一基板(120)、第二基板(110)を配置する。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)