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1. (WO2007002833) INTRODUCTION D'UNE COUCHE DE REFRACTION INTERMEDIAIRE POUR LITHOGRAPHIE EN IMMERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/002833    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/025384
Date de publication : 04.01.2007 Date de dépôt international : 29.06.2006
CIB :
G03B 27/42 (2006.01)
Déposants : CORBETT, Blaise [US/US]; (US)
Inventeurs : CORBETT, Blaise; (US)
Mandataire : BODENDORF, Andrew; 1727 King St., Suite 105, Alexandria, Virginia 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
60/694,688 29.06.2005 US
Titre (EN) INTRODUCTION OF AN INTERMEDIARY REFRACTIVE LAYER FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
(FR) INTRODUCTION D'UNE COUCHE DE REFRACTION INTERMEDIAIRE POUR LITHOGRAPHIE EN IMMERSION
Abrégé : front page image
(EN)An intermediary layer is introduced between a lens (127) and a wafer (110) for an immersion lithogτaphy process (200). A non-supercritical gas is provided and condensed to form a layer of liquid between the lens (127) and the wafer (110). The substrate may be irradiated through the lens and the intermediary layer. In addition the intermediary layer may be evaporated. The non-supercritical gas may include superheated steam which may be condensed to form a layer of water between the lens and the wafer. The wafer may be irradiated with one of a EUV light and UV light. A system for introduction of an intermediary llayer in the immersion lithography process is provided. The wafer has a hydrophobic surface.
(FR)Selon cette invention, une couche intermédiaire est introduite entre une lentille et une plaquette pour un processus de lithographie en immersion. Un gaz non supercritique est condensé pour former une couche de liquide entre la lentille et la plaquette. Le substrat peut être irradié à travers la lentille et la couche intermédiaire. En outre, cette couche intermédiaire peut ensuite être concentrée par évaporation. De la vapeur peut constituer la couche intermédiaire, condensée pour former une couche d'eau entre la lentille et la plaquette. La plaquette peut être irradiée soit avec une lumière UV extrême soit une lumière UV. L'invention concerne également un système permettant d'introduire une couche intermédiaire entre une lentille et une plaquette pour un processus de lithographie en immersion. La plaquette peut comprendre des surfaces hydrophobes et hydrophiles permettant d'obtenir des angles de contact améliorés entre la plaquette et la couche liquide intermédiaire condensée sur la plaquette, et permettent de diminuer l'aberration de la lumière provenant d'une source lumineuse à travers la couche liquide intermédiaire.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)