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1. (WO2007001301) PROCEDES ET SYSTEMES DE DEPOT PAR EVAPORATION SOUS VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/001301    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/022896
Date de publication : 04.01.2007 Date de dépôt international : 27.06.2005
CIB :
C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : CAMBRIDGE NANOTECH INC. [US/US]; 23 Perry Street, Cambridge, MA 02139 (US) (Tous Sauf US).
MONSMA, Douwe, J. [NL/US]; (US) (US Seulement).
BECKER, Jill, S. [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MONSMA, Douwe, J.; (US).
BECKER, Jill, S.; (US)
Mandataire : WALAT, Robert, H.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C., 600 Atlantic Avenue, Boston, MA 02210 (US)
Données relatives à la priorité :
60/583,854 28.06.2004 US
60/652,541 14.02.2005 US
Titre (EN) ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) SYSTEM AND METHOD
(FR) PROCEDES ET SYSTEMES DE DEPOT PAR EVAPORATION SOUS VIDE
Abrégé : front page image
(EN)Vapor deposition systems and methods associated with the same are provided. The systems may be designed to include features that can promote high quality deposition; simplify manufacture, modification and use; as well as, reduce the footprint of the system, amongst other advantages.
(FR)L'invention concerne des systèmes de dépôt par évaporation sous vide et des procédés associés à ces systèmes. Ces systèmes peuvent être conçus de manière à inclure des fonctionnalités permettant d'améliorer la qualité du dépôt ; de faciliter la fabrication, les modifications et l'utilisation ; ainsi que de réduire l'encombrement du système, entre autres avantages.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)