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1. (WO2007001045) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/001045    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/312973
Date de publication : 04.01.2007 Date de dépôt international : 29.06.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIWARA, Tomoharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKANO, Katsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIWARA, Tomoharu; (JP).
NAKANO, Katsushi; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-190254 29.06.2005 JP
2006-113478 17.04.2006 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置、基板処理方法、及びデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) has a detector (60) for detecting a defect in thin films (Rg, Tc) formed on a substrate (P). In liquid immersion exposure where the substrate (P) is exposed through liquid (LQ), an outflow of the liquid caused by a defect in the thin films (Rg, Tc) is detected before it occurs to suppress a reduction in productivity of devices and prevent an occurrence of disturbance in the exposure apparatus.
(FR)La présente invention concerne un appareil d'exposition (EX) qui comporte un capteur (60) destiné à détecter un défaut dans des couches minces (Rg, Tc) formées sur un substrat (P). Dans l'exposition par une immersion dans un liquide dans laquelle le substrat (P) est exposé à travers un liquide (LQ), un écoulement du liquide engendré par un défaut dans les couches minces (Rg, Tc) est détecté avant qu'il se produise pour supprimer une réduction de productivité des dispositifs et de prévenir une occurrence de perturbation dans l'appareil exposition.
(JA)露光装置EXは、基板P上に形成された薄膜Rg,Tcの欠陥を検出する検出装置60を備えている。液体LQを介して基板Pが露光される液浸露光の場合には、薄膜Rg,Tcの欠陥による液体の流出を未然に検知して、デバイスの生産性の低下を抑制し、露光装置の障害の発生を防止する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)