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1. (WO2007000995) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION, AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE L'APPAREIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/000995    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/312799
Date de publication : 04.01.2007 Date de dépôt international : 27.06.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-187889 28.06.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION, AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE L'APPAREIL
(JA) 露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) is provided with a substrate holder (4H) for holding a substrate (P) whereupon exposure light (EL) is applied, and a film forming apparatus (60) for forming a film of a liquid (LQ) on the substrate (P) prior to holding the substrate (P) with the substrate holder (4H). The exposure apparatus (EX) is also provided with a measuring apparatus (30), which has an optical member (33) in contact with the film of the liquid (LQ) and performs measurement relating to exposure process by irradiating the substrate (P) with measuring light (La) through the optical member (33) and the liquid (LQ). The measuring apparatus (30) applies the measuring light (La) on an outer side of an irradiation region (AR) whereupon the exposure light (EL) is applied, on the substrate (P).
(FR)La présente invention concerne un appareil d'exposition (EX) qui se compose d'un support de substrat (4H), maintenant un substrat (P) auquel est appliqué une lumière d'exposition (EL), et d'un dispositif de formation de film (60), visant à produire un film de liquide (LQ) sur le substrat (P) avant la fixation de ce dernier sur le support de substrat (4H). L'appareil d'exposition (EX) comprend également un dispositif de mesure (30), qui contient un élément optique (33) en contact avec le film de liquide (LQ) et qui réalise des mesures relatives au procédé d'exposition en exposant le substrat (P) à une lumière de mesure (La) au travers de l'élément optique (33) et du liquide (LQ). Le dispositif de mesure (30) applique la lumière de mesure (La) sur un côté externe d'une zone d'exposition (AR) du substrat (P) éclairée par la lumière d'exposition (EL).
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)