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1. (WO2007000885) PROCÉDÉ DE MISE EN MOTIF PERMANENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/000885    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/311503
Date de publication : 04.01.2007 Date de dépôt international : 08.06.2006
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku, Tokyo 106-8620 (JP) (Tous Sauf US).
TAKASHIMA, Masanobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUMI, Katsuto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOWADA, Kazuteru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Issei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UEMURA, Takayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKASHIMA, Masanobu; (JP).
SUMI, Katsuto; (JP).
KOWADA, Kazuteru; (JP).
SUZUKI, Issei; (JP).
UEMURA, Takayuki; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES 4th Floor, Shinjuku TR Bldg. 2-2-13, Yoyogi Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-188722 28.06.2005 JP
Titre (EN) PERMANENT PATTERNING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MISE EN MOTIF PERMANENT
(JA) 永久パターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A permanent patterning method capable of forming a high resolution permanent pattern efficiently by averaging the impact of variation in amount of exposure due to distortion of pattern thereby suppressing distortion of an image being formed on a photosensitive layer. In the permanent patterning method, after a photosensitive layer is formed on the surface of a substrate by using a photosensitive composition, a writing part being used for N-fold exposure (N is a natural number of 2 or above) is specified for the photosensitive layer by a use writing part specifying section by using an exposure head comprising a light irradiating means and an optical modulation means and arranged such that the array direction of writing portions makes a predetermined set inclination angle &thetas; with respect to the scanning direction, a writing portion control means controls the writing portions such that only a specified writing portion participates in exposure, and then the photosensitive layer is exposed and developed by moving the exposure head relatively to the layer in the scanning direction.
(FR)L’invention concerne un procédé de mise en motif permanent capable de former un motif permanent haute résolution de manière efficace en moyennant l’impact de variation de quantité d’exposition due à la distorsion du motif, supprimant ainsi toute distorsion d’une image formée sur une couche photosensible. Dans le procédé de mise en motif permanent, après la formation d’une couche photosensible à la surface d’un substrat à l’aide d’une composition photosensible, une portion écriture étant utilisée pour une exposition d’un nombre de fois N (N est un nombre naturel supérieur ou égal à 2) est spécifiée pour la couche photosensible à l’aide d’une section de spécification de portion écriture à l’aide d’une tête d’exposition comprenant un moyen d’irradiation lumineux et un moyen de modulation optique, et disposée de telle sorte que la direction d’analyse des portions écriture forme un angle d’inclinaison défini prédéterminé &thetas; par rapport à la direction de balayage, un moyen de commande de portion écriture commande les portions écriture de telle sorte que seule une portion écriture spécifiée participe à l’exposition, puis la couche photosensible est exposée et développée en déplaçant la tête d’exposition par rapport à la couche dans la direction de balayage.
(JA) 本発明は、パターン歪みによる露光量のばらつきの影響を均し、感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。  このため、感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、光照射手段、及び光変調手段を備えた露光ヘッドであって、走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、N重露光(ただし、Nは2以上の自然数)に使用する前記描素部を指定し、描素部制御手段により、指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光し、現像する永久パターン形成方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)