WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006128102) AUTOREPARATION ET AMELIORATION DE NANOSTRUCTURES PAR LIQUEFACTION DANS DES CONDITIONS DE GUIDAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/128102    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/020686
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 29.05.2006
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/46 (2006.01), H01L 21/477 (2006.01), H01L 21/4757 (2006.01)
Déposants : CHOU, Stephen Y. [US/US]; (US) (US Seulement).
XIA, Qiangfei [CN/US]; (US) (US Seulement).
PRINCETON UNIVERSITY [US/US]; Office of Technology Licensing, New South Building (admin), P.o. Box 36, Princeton, New Jersey 08544 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : CHOU, Stephen Y.; (US).
XIA, Qiangfei; (US)
Mandataire : BOOKS, Glen E.; POLSTER LIEDER WOODRUFF & LUCCHESI, L.C., 12412 Powerscourt Drive, Suite 200, St. Louis, Missouri 63131 (US)
Données relatives à la priorité :
60/685,277 27.05.2005 US
60/685,940 31.05.2005 US
Titre (EN) SELF-REPAIR AND ENHANCEMENT OF NANOSTRUCTURES BY LIQUIFICATION UNDER GUIDING CONDITIONS
(FR) AUTOREPARATION ET AMELIORATION DE NANOSTRUCTURES PAR LIQUEFACTION DANS DES CONDITIONS DE GUIDAGE
Abrégé : front page image
(EN)In accordance with the invention, the structure (1OA, 10B) of a patterned nanoscale or near nanoscale device ('nanostructure') is repaired and/or enhanced by liquifying the patterned device in the presence of appropriate guiding conditions for a period of time and then permitting the device to solidify. Advantageous guiding conditions include adjacent spaced apart or contacting surfaces (12, 13A, 13B) to control surface structure and preserve verticality and unconstrained boundaries to permit smoothing of edge roughness. In an advantageous embodiment, a flat planar surface (12) is disposed overlying a patterned nanostructure surface (13A, 13B) and the surface (13A, 13B) is liquified by a high intensity light source to repair or enhance the nanoscale features.
(FR)Selon l'invention, la structure d'un dispositif à échelle nanométrique ou quasi nanométrique présentant des motifs ('nanostructure') est réparée et/ou améliorée en liquéfiant le dispositif à motifs en présence de conditions de guidage appropriées pendant un intervalle de temps, puis en laissant le dispositif se solidifier. Des conditions de guidage avantageuses incluent des surfaces de guidage adjacentes écartées ou en contact pour réguler la structure de surface et pour la préservation verticale. Des limites sans contraintes permettent de lisser la rugosité des bords. Selon un mode de réalisation avantageux de l'invention, une surface plane plate est placée au-dessus d'une surface de nanostructure à motifs et la surface est liquéfiée par une source lumineuse à haute intensité pour réparer ou améliorer les éléments nanométriques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)