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1. (WO2006128054) DISPOSITIF POUR REDUIRE UNE ZONE THERMIQUEMENT AFFECTEE LORS DE MICRO-USINAGE AU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/128054    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/020606
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 26.05.2006
CIB :
B23K 26/06 (2006.01), B23K 26/067 (2006.01), B23K 26/073 (2006.01), B23K 26/36 (2006.01)
Déposants : RESONETICS, INC. [US/US]; 4 Bud Way #21, Nashua, NH 03063 (US) (Tous Sauf US).
HALL, Brian [US/US]; (US) (US Seulement).
HOLBROOK, David, S. [US/US]; (US) (US Seulement).
WALL, David, L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HALL, Brian; (US).
HOLBROOK, David, S.; (US).
WALL, David, L.; (US)
Mandataire : HOPKINS, Brian, P.; MINTZ, LEVIN, COHN, FERRIS, GLOVSKY AND POPEO, P.C., Chrysler Center, 666 Third Avenue, New York, NY 10017 (US)
Données relatives à la priorité :
11/140,341 27.05.2005 US
Titre (EN) APPARATUS FOR MINIMIZING A HEAT AFFECTED ZONE DURING LASER MICRO-MACHINING
(FR) DISPOSITIF POUR REDUIRE UNE ZONE THERMIQUEMENT AFFECTEE LORS DE MICRO-USINAGE AU LASER
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the present invention are directed to methods and systems for laser micro-machining, which may include dividing a long line illumination field into a plurality of individual fields, wherein each of the plurality of fields includes an aspect ratio of about 4:1 or greater, directing the plurality of individual fields onto at least one mask, wherein each individual field illuminates a corresponding area on the mask and translating the mask and/or workpiece relative to one another along a scan axis.
(FR)Selon certains modes de réalisation, l'invention concerne des procédés et des systèmes pour le micro-usinage au laser. Selon l'invention, un champ d'illumination longue distance est séparé en une pluralité de champs individuels, chaque champ de cette pluralité de champs ayant un rapport de forme d'environ 4:1 ou plus ; la pluralité des champs individuels est dirigée sur au moins un masque, chaque champ individuel illuminant une zone correspondante du masque ; le masque et/ou la pièce à usiner sont déplacés l'un par rapport à l'autre le long d'un axe de balayage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)