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1. (WO2006127586) PROCEDES POUR LA FORMATION DE RESEAUX DE FORMES DE PETITE TAILLE, FAIBLEMENT ESPACEES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/127586    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/019710
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 22.05.2006
CIB :
H01L 21/033 (2006.01)
Déposants : MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 8000 South Federal Way, Boise, ID 83707-0006 (US) (Tous Sauf US).
ABATCHEV, Mirzafer [RU/US]; (US) (US Seulement).
SANDHU, Gurtej [GB/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ABATCHEV, Mirzafer; (US).
SANDHU, Gurtej; (US)
Mandataire : MALLON, Joseph, J.; KNOBBE MARTENS OLSON & BEAR LLP, 2040 Main Street, 14th Floor, Irvine, CA 92614 (US)
Données relatives à la priorité :
11/134,982 23.05.2005 US
Titre (EN) METHODS FOR FORMING ARRAYS OF SMALL, CLOSELY SPACED FEATURES
(FR) PROCEDES POUR LA FORMATION DE RESEAUX DE FORMES DE PETITE TAILLE, FAIBLEMENT ESPACEES
Abrégé : front page image
(EN)Methods of forming arrays of small, densely spaced holes or pillars for use in integrated circuits are disclosed. Various pattern transfer and etching steps can be used, in combination with pitch-reduction techniques, to create densely-packed features. Conventional photolithography steps can be used in combination with pitch-reduction techniques to form superimposed, pitch-reduced patterns of crossing elongate features that can be consolidated into a single layer.
(FR)L'invention concerne des procédés pour la formation de réseaux d'orifices ou de piliers de petite taille, faiblement espacés, à utiliser dans des circuits intégrés. Diverses étapes de gravure et de transfert de motifs peuvent être mises en oeuvre, conjointement à des techniques de réduction de pas, afin que soient créées des formes faiblement espacées. Des étapes de photolitographie classique peuvent être mises en oeuvre conjointement aux techniques de réduction de pas afin que soient formés des motifs superposés, à pas réduit, de formes allongées croisées pouvant être consolidés sous forme de monocouche.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)