WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006126522) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/126522    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/310218
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 23.05.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
UEHARA, Yusaku [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Kousuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKANO, Katsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UEHARA, Yusaku; (JP).
SUZUKI, Kousuke; (JP).
NAKANO, Katsushi; (JP).
OMURA, Yasuhiro; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-151562 24.05.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure apparatus (100) is provided with an optical system including a liquid (Lq1); a sensor system (46) for obtaining energy information of an energy beam (1L) to be emitted into the liquid; and a controller (50), which predicts fluctuation of the optical characteristics of the optical system including the liquid due to liquid energy absorption, based on the energy information obtained by using the sensor system, and controls exposure operation to a matter (W) based on the prediction results. By means of the exposure apparatus, the exposure operation can be performed without being affected by the fluctuation of the optical characteristics of the optical system including the liquid due to the liquid energy absorption.
(FR)L'invention concerne un appareil d'exposition (100) doté d'un système optique incluant un liquide (Lq1). Ce système optique comprend également un système de capteur (46) pour obtenir des informations sur l'énergie d'un faisceau d'énergie (1L) devant être émis dans le liquide. Ce même système inclut enfin un contrôleur (50), qui prédit la fluctuation des caractéristiques optiques du système optique, contenant le liquide, à cause de l'absorption d'énergie par le liquide, sur la base des informations sur l'énergie obtenues en utilisant le système de capteur, et régule l'opération d'exposition à une matière (W) sur la base des résultats de prédiction. Au moyen de l'appareil d'exposition, l'opération d'exposition peut être effectuée sans être influencée négativement par la fluctuation des caractéristiques optiques du système optique, contenant le liquide, à cause de l'absorption d'énergie par le liquide.
(JA) 露光装置(100)は、液体(Lq1)を含む光学系と、液体に入射するエネルギビーム(IL)のエネルギ情報を取得するためのセンサシステム(46)と、該センサシステムを用いて取得されたエネルギ情報に基づいて、液体のエネルギ吸収に起因する、液体を含む光学系の光学特性の変動を予測し、該予測結果に基づき、物体(W)に対する露光動作を制御する制御装置50とを備えている。この露光装置によれば、液体のエネルギ吸収に起因するその液体を含む光学系の光学特性の変動に影響されることのない露光動作が可能になる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)