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1. (WO2006126444) PROCEDE D’ETALONNAGE DE CAPTEUR, PROCEDE ET DISPOSITIF D’EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF ET MASQUE A REFLEXION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/126444    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/309930
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 18.05.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 1/16 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Hajime [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISOGAMI, Tohru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Kazuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAYANAGI, Noriyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAMOTO, Hajime; (JP).
ISOGAMI, Tohru; (JP).
SUZUKI, Kazuaki; (JP).
HIRAYANAGI, Noriyuki; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-148944 23.05.2005 JP
2006-109578 12.04.2006 JP
Titre (EN) SENSOR CALIBRATION METHOD, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, DEVICE FABRICATION METHOD, AND REFLECTION TYPE MASK
(FR) PROCEDE D’ETALONNAGE DE CAPTEUR, PROCEDE ET DISPOSITIF D’EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF ET MASQUE A REFLEXION
(JA) センサの校正方法、露光方法、露光装置、デバイス製造方法、および反射型マスク
Abrégé : front page image
(EN)There is provided an exposure device capable of accurately controlling an exposure amount on a photosensitive substrate when exposing a pattern of a reflection type mask onto the photosensitive substrate via a projection optical system. The exposure device includes a first sensor (4) for detecting light coming from illumination system (1, 2) to the reflection type mask (M) and a second sensor (5) for detecting light coming from the illumination system to a reference reflection plane formed on the reflection type mask and reflected by the reference reflection plane to reach an image plane of a projection optical system (PO). According to the detection result of the first sensor and the detection result of the second sensor, the first sensor is calibrated and the exposure amount applied to the photosensitive substrate (W) is controlled according to the detection result of the calibrated first sensor.
(FR)L’invention prévoit un dispositif d’exposition en mesure de contrôler de manière précise un degré d’exposition sur un substrat photosensible lorsque le motif d’un masque à réflexion est exposé sur ce même substrat au moyen d’un système optique à projection. Le dispositif d’exposition inclut un premier capteur (4) pour détecter une lumière allant d’un système d’éclairage (1, 2) vers le masque à réflexion (M). Il comprend aussi un deuxième capteur (5) pour détecter une lumière allant du système d’éclairage à un plan de réflexion de référence formé sur le masque à réflexion. Cette lumière est réfléchie par le plan de réflexion de référence afin d’atteindre un plan d’image d’un système optique à projection (PO). Selon le résultat de la détection du premier capteur et celui du deuxième capteur, le premier capteur est étalonné et le degré d’exposition appliqué au substrat photosensible (W) est contrôlé selon le résultat de la détection du premier capteur étalonné.
(JA) 投影光学系を介して反射型マスクのパターンを感光性基板に露光する際に、感光性基板上における露光量を高精度に制御することのできる露光装置。照明系(1,2)から反射型マスク(M)へ入射する光を検出する第1センサ(4)と、照明系から反射型マスクに形成された基準反射面へ入射し、基準反射面で反射されて投影光学系(PO)の像面に達する光を検出する第2センサ(5)とを備えている。第1センサの検出結果と第2センサの検出結果とに基づいて第1センサの校正を行い、校正された第1センサの検出結果に基づいて感光性基板(W)へ照射される露光量を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)