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1. (WO2006125718) DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES VIDEO A MATRICE ACTIVE AVEC CORRECTION DES NON-UNIFORMITES DE LUMINANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/125718    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/062041
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 04.05.2006
CIB :
G09G 3/32 (2006.01)
Déposants : THOMSON LICENSING [FR/FR]; 46 Quai Alphonse le Gallo, F-92100 Boulogne-Billancourt (FR) (Tous Sauf US).
THIEBAUD, Sylvain [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
DAGOIS, Jean-Paul [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
LE ROY, Philippe [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : THIEBAUD, Sylvain; (FR).
DAGOIS, Jean-Paul; (FR).
LE ROY, Philippe; (FR)
Mandataire : LE DANTEC, Claude; THOMSON, 46, Quai Alphonse le Gallo, F-92100 Boulogne Billancourt (FR)
Données relatives à la priorité :
0551352 24.05.2005 FR
Titre (EN) ACTIVE MATRIX VIDEO IMAGE DISPLAY DEVICE WITH CORRECTION FOR LUMINANCE NON-UNIFORMITIES
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES VIDEO A MATRICE ACTIVE AVEC CORRECTION DES NON-UNIFORMITES DE LUMINANCE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an active matrix image display device that automatically corrects the luminance non-uniformities generated by the defects of the active matrix. Such defects are principally generated by the recrystallization process of the semiconductor substrate of the active matrix. Conventionally, in order to fabricate the active matrix, a low-cost amorphous semiconductor is employed that needs to be recrystallized by an excimer laser. During this process, the substrate is scanned by a laser beam and it has been observed that the defects are linked to the displacement of the laser relative to the substrate and that the transistors of the matrix placed along an axis perpendicular to the displacement axis of the laser have identical electrical characteristics. According to the invention, it is proposed that the cells belonging to the same row of cells (in the case of a vertical laser scanning) or to the same column of cells (in the case of a horizontal laser scanning) be corrected in an identical fashion.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'affichage d'images à matrice active qui corrige automatiquement les non-uniformités de luminance occasionnées par les défauts de la matrice active. Ces défauts sont généralement causés par le processus de recristallisation du substrat à semiconducteur de la matrice active. Traditionnellement, un semiconducteur amorphe peu coûteux nécessitant une recristallisation par laser à excimères est utilisé dans la fabrication de la matrice active. Au cours de ce processus, le substrat est balayé par faisceau laser et on a remarqué que les défauts correspondaient au déplacement du laser par rapport au substrat et que les transistors de la matrice placés le long d'un axe perpendiculaire à l'axe de déplacement du laser présentaient des caractéristiques électriques identiques. Selon l'invention, il est proposé que les cellules appartenant à la même rangée de cellules (dans le cas de balayage laser vertical) ou à la même colonne de cellules (dans le cas de balayage laser horizontal) soient corrigées de la même façon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)