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1. (WO2006125609) PROCEDE D'ALIGNEMENT D'UN SYSTEME OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/125609    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/004900
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 23.05.2006
CIB :
G02B 27/62 (2006.01), G01M 11/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G02B 5/32 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
FREIMANN, Rolf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WAGEMANN, Ulrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FREIMANN, Rolf; (DE).
WAGEMANN, Ulrich; (DE)
Mandataire : SCHORR, Frank; Augustenstrasse 46, 80333 München (DE)
Données relatives à la priorité :
60/684,439 24.05.2005 US
Titre (EN) METHOD OF ALIGNING AN OPTICAL SYSTEM
(FR) PROCEDE D'ALIGNEMENT D'UN SYSTEME OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method of manufacturing an optical system having plural optical elements mounted relative to each other on a mounting structure of the optical system comprises disposing the optical system in a beam path of an interferometer apparatus having an interferometer optics and a selectable hologram for shaping a beam of measuring light to be incident on surfaces of the optical elements of the optical system; selecting a first hologram of the interferometer apparatus and recording at least one first interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a first optical element; selecting a second hologram of the interferometer apparatus, wherein the second hologram is different from the first hologram, and recording at least one second interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a second optical element, which is different from the first optical element; and adjusting a position of the first optical element relative to the second optical element on the mounting structure based upon the first interference pattern and the second interference pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un système optique ayant plusieurs éléments optiques montés l'un par rapport à l'autre sur une structure de montage du système optique, ce procédé consistant à installer le système optique dans un trajet de faisceau d'un appareil interféromètre ayant des circuits optiques d'interféromètre et un hologramme sélectionnable pour conformer un faisceau de lumière de mesure pour qu'il soit incident sur des surfaces des éléments optiques du système optique ; à sélectionner un premier hologramme de l'appareil interféromètre et à enregistrer au moins un premier motif d'interférence généré en mesurant la lumière réfléchie de la surface d'un premier élément optique ; à sélectionner un second hologramme de l'appareil interféromètre, où le second hologramme est différent du premier hologramme, et à enregistrer au moins un second motif d'interférence généré en mesurant la lumière réfléchie de la surface d'un second élément optique, qui est différent du premier élément optique ; et à ajuster une position du premier élément optique par rapport au second élément optique sur la structure de montage sur la base du premier motif d'interférence et du second motif d'interférence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)