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1. (WO2006125433) LASER A DECHARGE GAZEUSE TRANSVERSAL, EXCITE ELECTRIQUEMENT, POUR LA PRODUCTION D'IMPULSIONS LUMINEUSES A FREQUENCE DES TRAINS D'IMPULSIONS ELEVEE, ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/125433    N° de la demande internationale :    PCT/DE2006/000919
Date de publication : 30.11.2006 Date de dépôt international : 23.05.2006
CIB :
H01S 3/03 (2006.01), H01S 3/0971 (2006.01), H01S 3/038 (2006.01), H01S 3/0975 (2006.01), H01S 3/105 (2006.01)
Déposants : LTB-LASERTECHNIK BERLIN GMBH [DE/DE]; Rudower Chaussee 29, 12489 Berlin (DE) (Tous Sauf US).
SCHOLZ, Matthias [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHURACK, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SPRANZ, Edgar [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SEGSA, Karl, Heinz [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MÜLLER, Joachim [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SCHOLZ, Matthias; (DE).
SCHURACK, Johannes; (DE).
SPRANZ, Edgar; (DE).
SEGSA, Karl, Heinz; (DE).
MÜLLER, Joachim; (DE)
Mandataire : HOFFMANN, Heinz-Dietrich; An der Wiese 4, 16356 Ahrensfelde (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2005 024 931.0 23.05.2005 DE
Titre (DE) TRANSVERSAL ELEKTRISCH ANGEREGTER GASENTLADUNGSLASER ZUR ERZEUGUNG VON LICHTPULSEN MIT HOHER PULSFOLGEFREQUENZ UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
(EN) ELECTRICALLY EXCITED GAS DISCHARGE LASER FOR GENERATING HIGH-REPETITION FREQUENCY LIGHT PULSES AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
(FR) LASER A DECHARGE GAZEUSE TRANSVERSAL, EXCITE ELECTRIQUEMENT, POUR LA PRODUCTION D'IMPULSIONS LUMINEUSES A FREQUENCE DES TRAINS D'IMPULSIONS ELEVEE, ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(DE)Gasentladungslaser mit einer Entladungsröhre, Haupt- und Hilfselektroden, Resonatorspiegeln und einem elektrischen Anregungskreis können Lichtpulse bis in den Subnanosekundenbereich generieren. Sie besitzen ein breites Anwendungsspektrum, beispielsweise als Anregungs- oder Ionisationslichtquelle bei verschiedenen Spektroskopieverfahren und im Zusammenhang mit dem UV-Mikroskop. Bekannte Gasentladungslaser weisen verschiedene Dichtungen im Bereich der Entladungsröhre auf und sind im endmontierten Zustand nicht nachjustierbar. Bei dem erfindungsgemäßen, wartungsfreien Gasentladungslaser (GL) mit einer Leistungsfähigkeit im Bereich von einigen 100 Millionen Lichtpulsen sind zur Feinjustage die Hauptelektroden (HE1 , HE2) in verformbaren Trägerwannen (TW) und die Resonatorspiegel (RS) in verformbaren Trägerringen (TR) gelagert, die durch Hartlot (HL) stoffschlüssig mit partiellen Metallbelägen (MB) auf der Entladungsröhre (ER) verbunden sind. Alle ultrahochvakuumtauglichen Komponenten sind zur vollständigen Wasserentfernung über die zweite Wassergrenze (355 °C) ausheizbar. Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung sieht ein Hartlöten oberhalb von 900°C der Trägerkomponenten mit partiellen Metallbelägen (MB) auf der Entladungsröhre (ER), ein Einschweißen der Resonatorspiegeln (RS), ein Ausheizen über die zweite Wassergrenze und eine anschließende Feinjustage vor.
(EN)Gas discharge lasers comprise a discharge tube, main and auxiliary electrodes, resonator mirrors and an electrical excitation circuit, which generates light pulses in a sub-nanosecond range. Said lasers have a large application spectrum, for example in the form of an excitation or ionisation light source for different spectroscopy methods associated with an UV-microscope. The known gas discharge lasers are provided with different seals in the discharge tube area at a final assembly stage and are unable to be adjusted afterwards. The inventive maintenance-free gas discharge laser (GL) exhibits a performance of about 100 millions light pulses, the main electrodes (HE1, HE2) are mounted, for the accurate adjustment thereof, in deformable carrier baths (TW) and the resonator mirrors (RS) are mounted in deformable carrier baths (TR), wherein said baths are assembled by hard soldering (HL) in such a way that they are integrally jointed with partial metal layers (MB) on the discharge tube (ER). All ultra-high vacuum-suitable components are sintered in such a way that water is completely removed at a second water limit (355°C). The preferred production method consists in carrying out hard soldering, at greater than 900 °C, of the carrying components with the metal layers (MB) on the discharge tube (ER), in welding the resonator (RS) mirrors, in sintering at the second water limit and subsequently in carrying out the accurate adjustment.
(FR)Les lasers à décharge gazeuse comprenant un tube à décharge, des électrodes principales et auxiliaires, des miroirs de résonateur, et un circuit d'excitation électrique, peuvent générer des impulsions lumineuses dans une plage s'étendant jusqu'aux sous-nanosecondes. Ils possèdent un large spectre d'application, par exemple, en tant que source de lumière d'excitation ou d'ionisation pour différents procédés de spectroscopie et en liaison avec le microscope UV. Les lasers à décharge gazeuse connus présentent différents joints d'étanchéité dans la zone du tube à décharge et, à l'état de montage final, ne peuvent être ajustés ultérieurement. Dans le laser à décharge gazeuse (GL) selon l'invention, exempt d'entretien, ayant une capacité de rendement de quelques 100 millions d'impulsions lumineuses, les électrodes principales (HE1, HE2) sont montées, en vue de leur ajustage de précision, dans des cuves supports déformables (TW), et les miroirs de résonateur (RS), dans des cuves supports déformables (TR), lesdites cuves étant assemblées, par brasage fort (HL), par liaison de matière, avec des couches métalliques partielles (MB) sur le tube à décharge (ER). Tous les composants convenant pour un vide ultra élevé sont étuvables en vue d'une élimination complète de l'eau, supérieure à la seconde limite d'eau (355°C). Un procédé préféré de production comprend les étapes suivantes : brasage fort, supérieur à 900 °C, des composants du support avec des couches métalliques (MB) sur le tube à décharge (ER), soudage des miroirs de résonateur (RS), étuvage supérieur à la seconde limite d'eau, et ajustage de précision subséquent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)