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1. (WO2006125192) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGES COMPRENANT UNE CELLULE DE PIXEL DOTEE D'UNE LIGNE D'INTERCONNEXION CONDUCTRICE TRANSPARENTE, ET PROCEDE DE REALISATION DE LA CELLULE DE PIXEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/125192    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/019605
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 19.05.2006
CIB :
H01L 27/146 (2006.01)
Déposants : MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 8000 S. Federal Way, Boise, ID 83707-0006 (US) (Tous Sauf US).
WELLS, David [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WELLS, David; (US)
Mandataire : D'AMICO, Thomas, J.; Dickstein Shapiro Morin & Oshinsky LLP, 2101 L Street NW, Washington, DC 20037-1526 (US)
Données relatives à la priorité :
11/132,179 19.05.2005 US
Titre (EN) AN IMAGING DEVICE HAVING A PIXEL CELL WITH A TRANSPARENT CONDUCTIVE INTERCONNECT LINE AND THE METHOD OF MAKING THE PIXEL CELL
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGES COMPRENANT UNE CELLULE DE PIXEL DOTEE D'UNE LIGNE D'INTERCONNEXION CONDUCTRICE TRANSPARENTE, ET PROCEDE DE REALISATION DE LA CELLULE DE PIXEL
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an imaging device having a pixel cell with a transparent conductive material interconnect line for focusing incident light onto a photosensor and providing an electrical connection to pixel circuitry, and the method of making the same. The pixel cell comprises a photosensor (12a, 12b), a transfer transistor (TX), a floating diffusion (18), a reset transistor (RST), a source follower transistor (34) and a row select transistor (26, SEL). The transparent interconnect line (111) could be any interconnect line used in the pixel circuitry, for example Vaa-pix line, charge transfer line, reset control signal line, row select line or supply voltage line. The transparent conductive material is a semiconducting oxide of a material selected from the group consisting of tin, indium, zinc and cadmium.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de formation d'images comprenant une cellule de pixel dotée d'une ligne d'interconnexion conductrice transparente qui focalise la lumière incidente sur un photodétecteur et fournit un raccordement électrique à des circuits de pixels. Elle concerne également un procédé de réalisation de la cellule de pixel.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)