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1. (WO2006124320) COUCHE METALLIQUE A MOTIF OBTENUE PAR TRANSFERT THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/124320    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/017288
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 02.05.2006
CIB :
H05K 3/00 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US) (Tous Sauf US).
NGUYEN, Kelvin [US/US]; (US) (US Seulement).
YANG, Zhihao [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : NGUYEN, Kelvin; (US).
YANG, Zhihao; (US)
Représentant
commun :
EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US)
Données relatives à la priorité :
11/130,772 17.05.2005 US
Titre (EN) A PATTERNED METAL LAYER USING THERMAL TRANSFER
(FR) COUCHE METALLIQUE A MOTIF OBTENUE PAR TRANSFERT THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming a pattern of electrical conductors by a laser ablation transfer process on a receiving substrate (110) comprises forming metal nanoparticles of a conductive material. A donor substrate (45) is formed. A layer of release material (75) is deposited on a first side of the donor substrate. The metal nanoparticles are deposited on the release material. The metal nanoparticulate layer are placed in contact with the receiving substrate. A pattern is written on a sandwich formed by the donor substrate and the receiving substrate, causing metal nanoparticles from the nanoparticulate layer (90) to anneal and transfer to the receiving substrate to form the pattern of electrical conductors on the receiving substrate .
(FR)L'invention concerne un procédé destiné à la formation de conducteurs électriques par ablation au laser sur un substrat receveur (110), consistant à former des nanoparticules métalliques à partir d'un matériau conducteur, à former un substrat donneur (45), à déposer une couche de matériau de libération (75) sur un premier côté du substrat donneur, à déposer les nanoparticules métalliques sur le matériau de libération, à mettre la couche de nanoparticules métalliques en contact avec le substrat receveur, à graver un motif sur un sandwich formé par le substrat donneur et le substrat receveur, à soumettre les nanoparticules métalliques de la couche de nanoparticules (90) à un recuit et à transférer les nanoparticules métalliques de la couche de nanoparticules (90) vers le substrat receveur pour former le motif de conducteurs électriques sur le substrat receveur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)