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1. (WO2006124280) ELEMENT IMAGEABLE MULTICOUCHE RESISTANT A LA CUISSON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/124280    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/016866
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 02.05.2006
CIB :
B41C 1/10 (2006.01), B41M 5/36 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US) (Tous Sauf US).
RAY, Kevin Barry [GB/US]; (US) (US Seulement).
KITSON, Anthony Paul [GB/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RAY, Kevin Barry; (US).
KITSON, Anthony Paul; (US)
Représentant
commun :
EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, New York 14650-2201 (US)
Données relatives à la priorité :
11/129,844 16.05.2005 US
Titre (EN) BAKEABLE MULTI-LAYER IMAGEABLE ELEMENT
(FR) ELEMENT IMAGEABLE MULTICOUCHE RESISTANT A LA CUISSON
Abrégé : front page image
(EN)Thermally imageable multilayer imageable elements useful as lithographic printing plate precursors that have good solvent resistance are disclosed. The underlayer of the imageable element comprises an acidic copolymer that comprises, in polymerized form, 10 mol% to 75 mol% of one or more monomers of the formula (I): CH2=CH(R1) Z-X-NH-CO-NH-C6H3-(R2)(CO2H); in which: R1 is H or CH3;R2 is H or OH; Z is -C6H4 -or - C(O) - Y- ;Y is - O - or - NH- ; and X is selected from -C(CH3) 2- , -CH(CH3)- and -(CH2)n-, in which n is an integer from 1 to 12.
(FR)L’invention décrit des éléments imageables multicouches, imageables thermiquement, utiles en tant que précurseurs de plaque d’impression lithographique et présentant une bonne résistance aux solvants. La sous-couche de l’élément imageable comprend un copolymère acide lequel comprend, sous sa forme polymérisée, de 10 % en mole à 75 % en mole d’un ou plusieurs monomères de formule (I) : CH2=CH(R1) Z-X-NH-CO-NH-C6H3-(R2)(CO2H), dans laquelle R1 est H ou CH3 ;R2 est H ou OH ; Z est -C6H4- ou -C(O)-Y-, Y étant -O- ou -NH- ; et X est choisi parmi -C(CH3)2-, -CH(CH3)- et -(CH2)n-, n étant un entier de 1 à 12.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)