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1. (WO2006123523) COMPOSITION DE RESERVE POSITIVE ET PROCEDE DE FORMATION D’UN MODELE DE RESERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/123523    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308751
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
HIROSAKI, Takako [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIONO, Daiju [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIROSAKI, Takako; (JP).
SHIONO, Daiju; (JP).
HIRAYAMA, Taku; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-144391 17.05.2005 JP
Titre (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RESERVE POSITIVE ET PROCEDE DE FORMATION D’UN MODELE DE RESERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A positive resist composition which comprises a base ingredient (A) whose alkali solubility increases by the action of an acid and an acid generator ingredient (B) which generates an acid upon exposure to light, wherein the base ingredient (A) contains a compound (A1) obtained from a polyhydric phenol compound (a) having two or more phenolic hydroxy groups and a molecular weight of 300-2,500 by protecting the phenolic hydroxy groups by an acid-dissociable dissolution-inhibitive group. In the compound (A1), the standard deviation (&sgr;n) of the number of protected groups per molecule is less than 1 or the standard deviation (&sgr;p) of the percentage protection (mol%) per molecule is less than 16.7.
(FR)L’invention concerne une composition de réserve positive qui comprend un ingrédient de base (A) dont la solubilité en milieu basique augmente grâce à l'action d'un acide et un ingrédient générant un acide (B) qui génère un acide lors d’une exposition à la lumière, l'ingrédient de base (A) contenant un copolymère (A1) obtenu à partir d'un composé de type phénol polyhydrique (a) ayant deux groupes hydroxy phénoliques ou plus et une masse moléculaire allant de 300 à 2 500 en protégeant les groupes hydroxy phénoliques par un groupe empêchant la dissolution dissociable en milieu acide. Dans le composé (A1), l'écart type (&sgr;n) du nombre de groupes protégés par molécule est inférieur à 1 ou l'écart type (&sgr;p) du pourcentage de protection (% en mole) par molécule est inférieur à 16,7.
(JA) 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、2以上のフェノール性水酸基を有し、分子量が300~2500である多価フェノール化合物(a)における前記フェノール性水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された化合物(A1)を含有し、かつ前記化合物(A1)が、一分子あたりの保護数(個)の標準偏差(σ)が1未満、または一分子あたりの保護率(モル%)の標準偏差(σ)が16.7未満であるポジ型レジスト組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)