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1. (WO2006123496) COMPOSITION DE RESERVE POSITIVE ET PROCEDE POUR LA FORMATION D'UN DESSIN DE RESERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/123496    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308124
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 18.04.2006
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (Tous Sauf US).
KINOSHITA, Yohei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHKUBO, Waki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAGAWA, Yusuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIDESAKA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IRIE, Makiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KINOSHITA, Yohei; (JP).
OHKUBO, Waki; (JP).
NAKAGAWA, Yusuke; (JP).
HIDESAKA, Shinichi; (JP).
IRIE, Makiko; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-143969 17.05.2005 JP
Titre (EN) POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
(FR) COMPOSITION DE RESERVE POSITIVE ET PROCEDE POUR LA FORMATION D'UN DESSIN DE RESERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a positive-working resist composition, which, upon a change in exposure, causes no significant variation in pattern size, and a method for resist pattern formation using the positive-working resist composition. A resin component (A) comprises a polymer compound (A1) comprising constitutional units (a1) containing an acetal-type protective group, acrylic ester-derived constitutional units (a2) containing a lactone-containing cyclic group, and an acrylic ester-derived constitutional units (a3) containing a polar group-containing aliphatic hydrocarbon group. An acid generating agent component (B) comprises an onium salt-type acid generating agent (B1) having a cation part represented by general formula (b-1) wherein R11 represents an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a hydroxyl group; R12 and R13 each independently represent an optionally substituted aryl or alkyl group; and n’ is an integer of 0 or 1 to 3.
(FR)Cette invention concerne une composition de réserve positive, laquelle, lors d'un changement d'exposition, ne provoque pas de variations importantes de la taille du dessin, et un procédé de formation d'un dessin de réserve utilisant la composition de réserve positive. Un composant résine (A) comprend un composé polymère (A1) comprenant des unités constitutives (a1) contenant un groupe protecteur de type acétal, des unités constitutives dérivées d'ester acrylique (a2) contenant un groupe cyclique contenant une lactone et des unités constitutives dérivées d'ester acrylique (a3) contenant un groupe hydrocarboné aliphatique contenant un groupe polaire. Un composant agent générant un acide (B) comprend un agent générant un acide de type sel d'onium (B1) ayant une partie cation représentée par la formule générale (b-1) dans laquelle R11 représente un groupe alkyle, un groupe alcoxy, un atome d'halogène ou un groupe hydroxyle ; R12 et R13 représentent chacun indépendamment un groupe aryle ou alkyle éventuellement substitué ; et n' est un nombre entier valant 0 ou 1 à 3.
(JA) 露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。樹脂成分(A)は、アセタール型保護基を有する構成単位(a1)と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、極性基含有脂肪族炭化水素基を含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを含む高分子化合物(A1)を含有し、かつ酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b-1) [式中、R11はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、または水酸基;R12~R13はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基またはアルキル基;n’は0または1~3の整数を表す。]で表されるカチオン部を有するオニウム塩系酸発生剤(B1)を含むポジ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)