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1. (WO2006123270) SOURCE A DECHARGE GAZEUSE, DESTINEE EN PARTICULIER A GENERER UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/123270    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/051428
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 08.05.2006
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH [DE/DE]; Lübeckertordamm 5, 20099 Hamburg (DE) (DE only).
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N. V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
NEFF, Jakob Willi [DE/BE]; (BE) (US Seulement).
PRUEMMER, Ralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : NEFF, Jakob Willi; (BE).
PRUEMMER, Ralf; (DE)
Mandataire : VOLMER, Georg; Philips Intellectual Property &, Standards Gmbh, Weisshausstr. 2, 52066 Aachen (DE)
Données relatives à la priorité :
102005023060.1 19.05.2005 DE
Titre (EN) GAS DISCHARGE SOURCE, IN PARTICULAR FOR EUV RADIATION
(FR) SOURCE A DECHARGE GAZEUSE, DESTINEE EN PARTICULIER A GENERER UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTREME
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a gas discharge source, in particular for EUV radiation and/or soft X-ray radiation, in which, in a vacuum chamber (2) , at least two electrodes (1) with an at least approximately circular periphery are rotatably mounted for rotation, wherein the electrodes at one spatial position have a small spacing for the ignition of a gas discharge (6, 18) and are in each case connected to a reservoir (15) for a liquid, electrically conductive material (5) in such a way that, during rotation, a liquid film (22) of the electrically conductive material can form over the circular periphery of the electrodes and a flow of current to the electrodes is made possible via the reservoirs. In the present gas discharge source, the electrodes are in each case connected to the reservoirs via a connecting element (14) , by means of which a gap (19) is formed between the electrode and the connecting element over a partial section of the circular periphery of each electrode, into which gap the liquid material can penetrate from the reservoir during rotation of the electrode via at least one feed channel (16) formed in the connecting element .
(FR)La présente invention se rapporte à une source à décharge gazeuse, destinée en particulier à générer un rayonnement ultraviolet extrême et/ou des rayons X mous. Ladite source à décharge gazeuse contient une chambre à vide, dans laquelle au moins deux électrodes dotées d'un pourtour au moins approximativement circulaire sont montées rotatives aux fins de rotation. Lesdites électrodes présentent, au niveau d'une position spatiale, un petit écartement permettant l'amorçage d'une décharge gazeuse, et chacune d'elles est reliée à un réservoir destiné à une matière liquide électriquement conductrice, de façon que, lors de la rotation, un film liquide de la matière électriquement conductrice puisse se former sur le pourtour circulaire des électrodes, et qu'un flux de courant vers les électrodes puisse être généré par l'intermédiaire des réservoirs. Dans la source à décharge gazeuse selon l'invention, chacune des électrodes est reliée à un réservoir par l'intermédiaire d'un élément de liaison, ce qui permet de former un espace entre l'électrode et l'élément de liaison sur une section partielle du pourtour circulaire de chaque électrode, la matière liquide pouvant pénétrer dans ledit espace à partir du réservoir pendant la rotation de l'électrode, par l'intermédiaire d'au moins un canal d'alimentation formé dans l'élément de liaison.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)