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1. (WO2006122877) DISPERSION CONTENANT DE LA POUDRE DE SILICIUM ET PROCEDE D'ENROBAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/122877    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/062040
Date de publication : 23.11.2006 Date de dépôt international : 04.05.2006
CIB :
C01B 33/021 (2006.01), H01L 31/0368 (2006.01)
Déposants : EVONIK DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Bennigsenplatz 1, 40474 Düsseldorf (DE) (Tous Sauf US).
GJUKIC, Mario [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LECHNER, Robert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STUTZMANN, Martin [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GJUKIC, Mario; (DE).
LECHNER, Robert; (DE).
STUTZMANN, Martin; (DE)
Représentant
commun :
EVONIK DEGUSSA GMBH; S-IPM-PAT, Postcode 84/339, Rodenbacher Chaussee 4, 63457 Hanau (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2005 022 383.4 14.05.2005 DE
10 2005 056 446.1 26.11.2005 DE
Titre (EN) DISPERSION CONTAINING SILICON POWDER AND COATING PROCESS
(FR) DISPERSION CONTENANT DE LA POUDRE DE SILICIUM ET PROCEDE D'ENROBAGE
Abrégé : front page image
(EN)Dispersion containing silicon powder and a liquid phase, in which the silicon powder is predominantly in crystalline form and the particles in the dispersion have a mean diameter D50 of less than 500 nm and a BET surface area of more than 5 m2/g. Process for coating a substrate with a nanosize silicon layer having a thickness of from 1 nm to 5 μm using the dispersion. Process for coating a substrate with a closed, polycrystalline silicon layer by means of aluminium-induced layer exchange, in which a dispersion containing nanosize silicon powder is firstly applied to the surface of an aluminium-coated substrate and, after drying of the nanosize silicon layer, the layer structure composed of substrate, aluminium and nanosize silicon powder is thermally treated in an inert atmosphere at a temperature below the eutectic temperature of the mixture of silicon and aluminium.
(FR)Cette invention concerne une dispersion contenant de la poudre de silicium et une phase liquide, dans laquelle la poudre de silicium se présente principalement sous forme cristalline et les particules dans la dispersion ont un diamètre moyen D50 inférieur à 500 nm et une surface utile BET supérieure à 5 m2/g. Cette invention concerne également un procédé permettant de recouvrir un substrat avec une couche de silicium nanométrique dont l'épaisseur est comprise entre 1nm et 5 µm au moyen de la dispersion. L'invention concerne également un procédé permettant de recouvrir un substrat avec une couche de silicium polycristallin fermée par échange de couches induit par l'aluminium; procédé dans lequel une dispersion contenant de la poudre de silicium nanométrique est d'abord appliquée sur la surface d'un substrat recouvert d'aluminium puis, après séchage de la couche de silicium nanométrique, la structure de couche composée du substrat, de l'aluminium et de la poudre de silicium nanométrique est soumise à un traitement thermique dans une atmosphère inerte à une température inférieure à la température eutectique du mélange de silicium et d'aluminium.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)