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1. (WO2006122294) TECHNIQUES ET DISPOSITIFS DE CARACTERISATION DE COURBURES NON UNIFORMES D'UN POINT DE VUE SPATIAL ET DE CONTRAINTES DE STRUCTURES A FILM MINCE SUR DES SUBSTRATS A EFFETS NON LOCAUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/122294    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/018379
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 10.05.2006
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G01R 27/28 (2006.01)
Déposants : CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; Mail Code 201-85, 1200 East California Boulevard, Pasadena, California 91125 (US) (Tous Sauf US).
ROSAKIS, Ares J. [US/US]; (US) (US Seulement).
HUANG, Yonggang [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ROSAKIS, Ares J.; (US).
HUANG, Yonggang; (US)
Mandataire : HARRIS, Scott C.; 12390 El Camino Real, San Diego, California 92130 (US)
Données relatives à la priorité :
60/679,328 10.05.2005 US
60/723,302 04.10.2005 US
Titre (EN) TECHNIQUES AND DEVICES FOR CHARACTERIZING SPATIALLY NON-UNIFORM CURVATURES AND STRESSES IN THIN-FILM STRUCTURES ON SUBSTRATES WITH NON-LOCAL EFFECTS
(FR) TECHNIQUES ET DISPOSITIFS DE CARACTERISATION DE COURBURES NON UNIFORMES D'UN POINT DE VUE SPATIAL ET DE CONTRAINTES DE STRUCTURES A FILM MINCE SUR DES SUBSTRATS A EFFETS NON LOCAUX
Abrégé : front page image
(EN)Techniques and devices are described to use spatially-varying curvature information of a layered structure to determine stresses at each location with non-local contributions from other locations of the structure. For example, a local contribution to stresses at a selected location on a layered structure formed on a substrate is determined from curvature changes at the selected location and a non-local contribution to the stresses at the selected location is also determined from curvature changes at all locations across the layered structure. Next, the local contribution and the non-local contribution are combined to determine the total stresses at the selected location. Techniques and devices for determining a misfit strain between a film and a substrate on which the film is deposited are also described.
(FR)L'invention concerne des techniques et des dispositifs dans lesquels sont utilisées des informations de courbure variables d'un point de vue spatial d'une structure à couches pour déterminer les contraintes au niveau de chaque emplacement avec des contributions non locales d'autres emplacements de la structure. Par exemple, une contribution locale aux contraintes d'un emplacement sélectionné sur une structure à couches formée sur un substrat est déterminée à partir des changements de courbure au niveau de l'emplacement sélectionné, et une contribution non locale aux contraintes de l'emplacement sélectionné est également déterminée à partir des changements de courbure au niveau de tous les emplacements de la structure à couches. La contribution locale et la contribution non locale sont ensuite combinées pour déterminer les contraintes totales au niveau de l'emplacement sélectionné. L'invention concerne également des techniques et des dispositifs permettant de déterminer une contrainte inadaptée entre un film et un substrat sur lequel est déposé le film.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)