WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006121298) METHODE DE FORMATION DE MOTIF DE HAUTE RESOLUTION FAISANT APPEL A UN MOYEN D'ECRITURE DIRECTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/121298    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/001769
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 12.05.2006
CIB :
H01L 21/32 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 20, Yoido-dong, Youngdungpo-gu, Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : SHIN, Dong-Youn; (KR).
SHIN, Bu-Gon; (KR)
Mandataire : HAM, Hyun-Kyung; 14F., Kukdong Building, 60-1 Chungmuro3-ka, Chung-ku, Seoul 100-705 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0039774 12.05.2005 KR
10-2005-0129694 26.12.2005 KR
Titre (EN) METHOD FOR FORMING HIGH-RESOLUTION PATTERN WITH DIRECT WRITING MEANS
(FR) METHODE DE FORMATION DE MOTIF DE HAUTE RESOLUTION FAISANT APPEL A UN MOYEN D'ECRITURE DIRECTE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for forming a pattern which comprises the steps of: (a) providing a substrate having a sacrificial layer made of a first material, partially or totally formed on the substrate; (b) forming pattern grooves, which are free from the first material and have a line width of a first resolution or lower, on the sacrificial layer by using a first means, by which the sacrificial layer is directly processed to form a line; (c) filling the pattern grooves with a second material to a second resolution by using a second means, to form a pattern of the second material on the substrate. A substrate having a pre-pattern formed by the method is also disclosed. The method for forming a pattern provides a high-resolution pattern with little or no waste of the second material, thereby reducing production costs. The method includes use of the first means with a high resolution, such as focused energy beams of laser, combined with the second means with a low resolution, such as ink-jet, and provides a high-resolution pattern with high processing efficiency.
(FR)L'invention concerne une méthode pour former un motif. Cette méthode comprend les étapes consistant à: (a) fournir un substrat présentant une couche sacrificielle constituée d'une première matière, partiellement ou totalement formée sur le substrat; (b) former des rainures de motif exemptes de la première matière et présentant une largeur de ligne inférieure ou égale à une première résolution, sur la couche sacrificielle, à l'aide d'un premier moyen grâce auquel la couche sacrificielle est directement traitée pour former une ligne; (c) remplir les rainures de motif d'une seconde matière, à une seconde résolution, à l'aide d'un second moyen, pour former un motif de seconde matière sur le substrat. Un substrat présentant un prémotif formé par la méthode susmentionnée est également décrit. La méthode de formation d'un motif permet d'obtenir un motif de haute résolution présentant peu ou pas de déchets de la seconde matière, ce qui permet de réduire les coûts de production. La méthode de l'invention fait appel à l'utilisation du premier moyen à une haute résolution, notamment des faisceaux d'énergie focalisés d'un laser, combiné au second moyen présentant une faible résolution, notamment un jet d'encre, pour obtenir un motif de haute résolution avec une haute efficacité de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)