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1. (WO2006121264) REACTEUR DE DEPOT DE COUCHE ATOMIQUE A ENTREES MULTIPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/121264    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/001703
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 04.05.2006
CIB :
C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : ASM GENITECH KOREA LTD. [KR/KR]; 1694-5, Sinildong, Daedog-gu, Daejeon Metropolitan City 306-230 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Dae-Youn [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Jeong-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YOO, Yong-Min [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Dae-Youn; (KR).
LEE, Jeong-Ho; (KR).
YOO, Yong-Min; (KR)
Mandataire : YOU ME PATENT & LAW FIRM; Seolim bldg., 649-10, Yeksam-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0038606 09.05.2005 KR
Titre (EN) MULTIPLE INLET TOMIC LAYER DEPOSITION REACTOR
(FR) REACTEUR DE DEPOT DE COUCHE ATOMIQUE A ENTREES MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN)A reactor (200) configurated to subject a substrate to alternately repeated surface of vapophase reactants is disclosed. The reactor includes a reaction chamber, a plurality of inlets (210,212), and an exhaust outles (220). The reaction chamber includes a reaction space (251). The reactor also includes a gas flow control guide structure (205) within the reaction chamber. The gas flow control guide structures (205) sides over the reaction space (251) and is interposed between the plurality of inlets (210,212) and the reaction space. The gas flow control guide structure (205) includes a plurality of channels (210,212), and each of the channels extends form one of the inlets to an upstream periphery of the reaction space. Each of the channels progressively widens as the channel extends form the inlet to the reaction space (251). The reacto further includes a substrate holder (260) in the reaction space (251).
(FR)Réacteur (200) soumettant un substrat à des réactions de surface répétées en alternance de réactifs de vapophase. Le réacteur comprend une chambre de réaction, plusieurs admissions (210,212), et des sorties d'évacuation (220). La chambre comprend un espace de réaction (251). Le réacteur comprend aussi une structure de guidage de contrôle de flux de gaz (205) à l'intérieur de la chambre. Cette structure (205) coulisse sur l'espace de réaction (251) et s'interpose entre les admissions (210,212) et l'espace de réaction, et elle comprend plusieurs canaux (210,212) qui s'étendent chacun depuis l'un des admissions vers une périphérie en amont de l'espace de réaction, s'élargissant progressivement à mesure que le canal s'étend depuis l'admission vers l'espace de réaction (251). LE réacteur comprend enfin un porte-substrat (260) dans l'espace de réaction (251).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)