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1. (WO2006121242) COMPOSITION DE MASQUE DUR ANTIREFLET ET PROCEDES D'UTILISATION ASSOCIES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/121242    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/000909
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 14.03.2006
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : CHEIL INDUSTRIES INC. [KR/KR]; 290, Kongdan-Dong, Kumi-Si, Gyeongsangbuk-Do 730-030 (KR) (Tous Sauf US).
UH, Dong Seon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
OH, Chang Il [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Do Hyeon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Jin Kuk [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
NAM, Irina [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : UH, Dong Seon; (KR).
OH, Chang Il; (KR).
KIM, Do Hyeon; (KR).
LEE, Jin Kuk; (KR).
NAM, Irina; (KR)
Mandataire : KIM, Hak Je; Phoenix International Patent, and Law Office, Kwangwhamoon P.O.Box 1828, Seoul, 110-618 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0038406 09.05.2005 KR
10-2005-0068348 27.07.2005 KR
Titre (EN) ANTIREFLECTIVE HARDMASK COMPOSITION AND METHODS FOR USING SAME
(FR) COMPOSITION DE MASQUE DUR ANTIREFLET ET PROCEDES D'UTILISATION ASSOCIES
Abrégé : front page image
(EN)Hardmask compositions having antireflective properties useful in lithographic processes, methods of using the same, and semiconductor devices fabricated by such methods, are provided. In some embodiments of the present invention, antireflective hardmask compositions include: a) a polymer component, which includes one or more of the monomeric units having strong absorbance in the short wavelength region of the electromagnetic spectrum; b) a crosslinking component; and c) an acid catalyst.
(FR)L'invention concerne des compositions de masque dur ayant des propriétés antireflet utiles dans les processus lithographiques, des méthodes d'utilisation associées et des dispositifs semi-conducteurs fabriqués à l'aide de ces procédés. Dans certains modes de réalisation, ces compositions de masque dur antireflet comprennent : a) un composant polymère, qui comprend une ou plusieurs unités monomères présentant une forte absorbance dans la région de courte longueur d'onde du spectre électromagnétique ; b) un composant de réticulation ; et c) un catalyseur acide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)