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1. (WO2006121081) ACETONITRILE EXTREMEMENT PUR ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/121081    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/309407
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 10.05.2006
CIB :
C07C 253/34 (2006.01), C07C 255/03 (2006.01)
Déposants : Asahi Kasei Chemicals Corporation [JP/JP]; 1-2, Yuraku-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008440 (JP) (Tous Sauf US).
SANO, Kazuhiko; (US Seulement).
OHYAMA, Kikuo; (US Seulement).
HINAGO, Hidenori; (US Seulement)
Inventeurs : SANO, Kazuhiko; .
OHYAMA, Kikuo; .
HINAGO, Hidenori;
Mandataire : OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-136820 10.05.2005 JP
Titre (EN) HIGH-PURITY ACETONITRILE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) ACETONITRILE EXTREMEMENT PUR ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 高純度アセトニトリル及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing high-purity acetonitrile having a low absorbance at a wavelength of 200 nm. It requires a reduced amount of energy for purification and the purification step is simple. It considerably diminishes the propionitrile contained in acetonitrile. The process for high-purity acetonitrile production is characterized by mixing hydrous crude acetonitrile with an alkali, separating the mixture into an acetonitrile phase and an aqueous phase, removing the aqueous phase, subjecting the resultant acetonitrile phase to a distillation step to obtain purified acetonitrile, and passing the resultant purified acetonitrile through an cation-exchange resin to obtain high-purity acetonitrile.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d’un acétronitrile extrêmement pur présentant une faible absorbance à une longueur d’onde de 200 nm. Ledit procédé nécessite une quantité réduite d’énergie pour la purification et l’étape de purification est simple. Il réduit considérablement le propionitrile présent dans l’acétonitrile. Le procédé de production d’acétonitrile extrêmement pur est caractérisé par le mélange d’acétonitrile brut hydrique avec un groupe alcalin, la séparation du mélange en une phase acétonitrile et en une phase aqueuse, le retrait de la phase aqueuse, la soumission de la phase acétonitrile à une étape de distillation en vue d’obtenir de l’acétonitrile purifié, et le passage de l’acétonitrile purifié obtenu à travers une résine échangeuse de cations en vue d’obtenir de l’acétonitrile extrêmement pur.
(JA) 本発明は、精製に用いられるエネルギーが少なく、精製工程も簡易なプロセスであり、アセトニトリル中に含まれるプロピオニトリルを著しく減少させ、波長200nmでの吸光度の低い高純度アセトニトリルを製造する方法の提供することを目的とする。本発明は、含水粗アセトニトリルをアルカリと混合し、アセトニトリル相と水相に分離して水相を除去し、得られたアセトニトリル相を蒸留工程に通して精製アセトニトリルを得、得られた精製アセトニトリルを陽イオン交換樹脂に通して高純度アセトニトリルを得ることを特徴とする高純度アセトニトリルの製造方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)