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1. (WO2006120634) DISPOSITIF MODULATEUR SPATIAL DE LUMIERE, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FAISCEAU LUMINEUX POSSEDANT UN PROFIL DE LUMIERE SPATIALE ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/120634    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/051437
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 08.05.2006
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NXP B.V. [NL/NL]; High Tech Campus 60, NL-5656 AG Eindhoven (NL) (AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
ZAWILSKI, Peter [US/US]; (US) (AE only).
LOUS, Erik, J. [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : LOUS, Erik, J.; (NL)
Mandataire : ZAWILSKI, Peter; NXP Semiconductors, Intellectual Property Department, 1109 McKay Drive, M/S-41SJ, San Jose, CA 95131-1706 (US)
Données relatives à la priorité :
05104008.7 13.05.2005 EP
Titre (EN) SPATIAL LIGHT MODULATOR DEVICE, LITHOGRAPHIC APPARATUS, DISPLAY DEVICE, METHOD OF PRODUCING A LIGHT BEAM HAVING A SPATIAL LIGHT PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE
(FR) DISPOSITIF MODULATEUR SPATIAL DE LUMIERE, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN FAISCEAU LUMINEUX POSSEDANT UN PROFIL DE LUMIERE SPATIALE ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)The spatial light modulator device (SLM) for providing a spatial light pattern which is alterable in response to an electric signal comprises a first modulator element (MEl) and a second modulator element (ME2). The first light beam (LBl) processed by the first modulator element (MEl) and the second light beam (LB2) processed by the second modulator element (ME2) can be superimposed for forming the spatial light pattern. In this way a defect in the first modulator element (MEl) can be compensated a corresponding pixel of the second modulator element (ME2). The spatial light pattern provided by the first modulator element (MEl) and the second modulator element (ME2) are complementary and combine to the desired spatial light pattern. The spatial light modulator device (SLM) may be used in a lithography apparatus (LA) or a display device (DD).
(FR)L'invention a trait à un dispositif modulateur spatial de lumière (SLM) destiné à produire un profil de lumière spatiale qui peut être modifié en réponse à un signal électrique, qui comprend un premier élément modulateur (ME1) et un second élément modulateur (ME2). Le premier faisceau lumineux (LB1), traité par le premier élément modulateur (ME1), et le second faisceau lumineux (LB2), traité par le second élément modulateur (ME2), peuvent être superposés afin que soit formé le profil de lumière spatiale, ce qui permet de compenser un défaut dans le premier élément modulateur (ME1) par un pixel correspondant du second élément modulateur (ME2). Le profil de lumière spatiale produit par le premier élément modulateur (ME1) et le second élément modulateur (ME2) sont complémentaires, et se combinent pour former le profil de lumière spatiale désiré. Le dispositif modulateur spatial de lumière (SLM) selon l'invention peut être utilisé dans un appareil de lithographie (LA) ou un dispositif d'affichage (DD).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)