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1. (WO2006120212) ESTERS PHENYLGLYOXALIQUES GENERANT DES FRAGMENTS A FAIBLE CAPACITE DE MIGRATION PAR PHOTOLYSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/120212    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/062206
Date de publication : 16.11.2006 Date de dépôt international : 10.05.2006
CIB :
C08F 2/50 (2006.01), C07C 45/00 (2006.01)
Déposants : LAMBERTI SPA [IT/IT]; Via Piave, 18, I-21041 Albizzate (IT) (Tous Sauf US).
ROMAGNANO, Stefano [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
NORCINI, Gabriele [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
VISCONTI, Marco [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
LI BASSI, Giuseppe [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : ROMAGNANO, Stefano; (IT).
NORCINI, Gabriele; (IT).
VISCONTI, Marco; (IT).
LI BASSI, Giuseppe; (IT)
Données relatives à la priorité :
VA/2005/A/000032 13.05.2005 IT
Titre (EN) PHENYLGLYOXALIC ESTERS GENERATING BY PHOTOLYSIS LOW MIGRATABLE FRAGMENTS
(FR) ESTERS PHENYLGLYOXALIQUES GENERANT DES FRAGMENTS A FAIBLE CAPACITE DE MIGRATION PAR PHOTOLYSE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention concerns photopolymerisable systems comprising reactive oligomers and/or monomers having ethylenically unsaturated groups and at least one phenylglyoxalic ester that, by photochemical decomposition, generates fragments having low migratability and low odour.
(FR)La présente invention concerne des systèmes photopolymérisables comprenant des oligomères et/ou des monomères réactifs renfermant des groupes éthyléniquement insaturés et au moins un ester phénylglyoxalique générant des fragments à faible capacité de migration et à faible odeur par décomposition photochimique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)