WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006119202) MATERIAU D'IMPRESSION POREUX POUR JET D'ENCRE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/119202    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/016653
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 27.04.2006
CIB :
B41M 5/52 (2006.01), B41M 5/50 (2006.01)
Déposants : HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. [US/US]; Hewlett-Packard Company, Intellectual Property Administration, 20555 S.H. 249, Houston, Texas 77070 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Tienteh [US/US]; (US) (US Seulement).
BURCH, Eric Lee [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Tienteh; (US).
BURCH, Eric Lee; (US)
Mandataire : HAYMOND, W., Bradley; Hewlett-Packard Company, Intellectual Property Administration, P.O. Box 272400, Mail Stop 35, Fort Collins, Colorado 80527-2400 (US)
Données relatives à la priorité :
11/119,078 29.04.2005 US
Titre (EN) POROUS INKJET RECORDING MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) MATERIAU D'IMPRESSION POREUX POUR JET D'ENCRE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)In one aspect of the present system and method, an ink receiving substrate (170) includes a photobase layer (172), a layer of inorganic oxide dispensed on the photobase layer (172), and a layer of colloidal inorganic oxide (176) formed on the layer of inorganic oxide.
(FR)Selon un aspect de la présente invention, les présents système et procédé concernent un substrat de réception de l'encre (170) comprenant une couche de photobase (172), une couche d'oxyde inorganique appliquée sur la couche de photobase (172), et une couche d'oxyde inorganique colloïdal (176) formée sur la couche d'oxyde inorganique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)