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1. (WO2006118902) ARTICLE-ELECTRET POSSEDANT DES HETEROATOMES ET UN RAPPORT FAIBLE DE FLUOROSATURATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/118902    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/015805
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.02.2007    
CIB :
B01D 39/16 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3m Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : KIRK, Seth M.,; (US).
SPARTZ, Gerald R.,; (US).
JONES, Marvin E.,; (US).
PACHUTA, Steven J.,; (US).
HUBERTY, John S.,; (US)
Mandataire : HANSON, Karl G.,; 3M Center, Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US).
VOSSIUS & PARTNER; Patentanwälte, P.O. Box 86 07 67, D-81634 München (DE)
Données relatives à la priorité :
11/120,049 02.05.2005 US
Titre (EN) ELECTRET ARTICLE HAVING HETEROATOMS AND LOW FLUOROSATURATION RATIO
(FR) ARTICLE-ELECTRET POSSEDANT DES HETEROATOMES ET UN RAPPORT FAIBLE DE FLUOROSATURATION
Abrégé : front page image
(EN)An electret article that includes a polymeric material that has electric charge imparted thereto, that has one or more heteroatoms, that has a fluorosaturation ratio of less than 200, and that has an atomic percent fluorine of greater than about 40%. The inventive electret article is resistant to charge degradation upon exposure to high temperatures for prolonged time periods.
(FR)L'invention porte sur un article-électret comprenant un matériau polymère auquel on a conféré une charge électrique et possédant un ou plusieurs hétéroatomes, et ayant un taux de fluorosaturation inférieur à 200 et un pourcentage atomique de fluor supérieur à environ 40 %. L'article-électret de l'invention résiste à la dégradation de charge à une exposition à des températures élevées sur des durées prolongées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)