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1. (WO2006118278) SYSTEME DE LIBERATION DE LIPOSOMES SENSIBLES A LA TEMPERATURE ET DE MEDICAMENTS SENSIBLES A LA TEMPERATURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/118278    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/309052
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 28.04.2006
CIB :
A61K 9/127 (2006.01), A61K 31/704 (2006.01), A61K 45/00 (2006.01), A61K 47/30 (2006.01), A61K 47/34 (2006.01), A61P 35/00 (2006.01)
Déposants : KONO, Kenji [JP/JP]; (JP).
AOSHIMA, Sadahito [JP/JP]; (JP)
Inventeurs : KONO, Kenji; (JP).
AOSHIMA, Sadahito; (JP)
Mandataire : NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-132169 28.04.2005 JP
Titre (EN) TEMPERATURE-SENSITIVE LIPOSOME AND TEMPERATURE-SENSITIVE DRUG RELEASE SYSTEM
(FR) SYSTEME DE LIBERATION DE LIPOSOMES SENSIBLES A LA TEMPERATURE ET DE MEDICAMENTS SENSIBLES A LA TEMPERATURE
(JA) 温度感受性リポソームおよび温度感受性薬剤放出システム
Abrégé : front page image
(EN)Temperature-sensitive liposomes comprising a liposome membrane and, carried thereby, not only a polymeric compound having a thermosensitive responsive region and a hydrophobic region but also polyethylene glycol.
(FR)La présente invention concerne des liposomes sensibles à la température comprenant une membrane liposomique et, transportés par celle-ci, non seulement un composé polymère ayant une région de réponse thermosensible et une région hydrophobe mais également un polyéthylène glycol.
(JA) 本発明は、感熱応答性部分および疎水性部分を有する高分子化合物と、ポリエチレングリコールとが、リポソーム膜に担持されてなる温度感受性リポソームである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)