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1. (WO2006118258) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/118258    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/309002
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 28.04.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRAISHI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUJIWARA, Tomoharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRAISHI, Kenichi; (JP).
FUJIWARA, Tomoharu; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-131866 28.04.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure method is provided with a step of forming an immersion region (LR) on a substrate (P); a step of exposing the substrate (P) by irradiating the substrate (P) with exposure light (EL) through a liquid (LQ) in the immersion region (LR); and a step of preventing an integrated value of a contact time when the liquid (LQ) of the immersion region (LR) is brought into contact with first regions (S1-S37, 101) on the substrate (P) from exceeding a previously set acceptable value.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'exposition comportant une étape de formation d’une zone d’immersion (LR) sur un substrat (P) ; une étape d’exposition du substrat (P) par irradiation du substrat (P) avec une lumière d’exposition (EL) à travers un liquide (LQ) dans la zone d’immersion (LR) ; et une étape empêchant une valeur intégrée d’un temps de contact lorsque le liquide (LQ) de la zone d’immersion (LR) est mis en contact avec les premières zones (S1-S37, 101) sur le substrat (P) de dépasser une valeur acceptable définie au préalable.
(JA) 露光方法は、基板(P)上に液浸領域(LR)を形成する工程と、液浸領域(LR)の液体(LQ)を介して基板(P)に露光光(EL)を照射して基板(P)を露光する工程と、液浸領域(LR)の液体(LQ)と基板(P)上の第1領域(S1~S37、101)とが接触する接触時間の積算値が予め定められた許容値を超えないようにする工程とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)